| 研究課題/領域番号 |
22360013
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
応用物性・結晶工学
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| 研究機関 | 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所 |
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研究代表者 |
赤坂 哲也 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 機能物質科学研究部, 主任研究員 (90393735)
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| 研究分担者 |
後藤 秀樹 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 量子光物性研究部, 主幹研究員 (10393795)
小林 康之 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 機能物質科学研究部, 主幹研究員 (90393727)
嘉数 誠 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 機能物質科学研究部, 主幹研究員 (50393731)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
18,980千円 (直接経費: 14,600千円、間接経費: 4,380千円)
2012年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2011年度: 8,450千円 (直接経費: 6,500千円、間接経費: 1,950千円)
2010年度: 4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
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| キーワード | エピタキシャル成長 / 半導体物性 / 量子井戸 / 結晶成長 / 窒化物半導体 / ステップフリー / 無転位 / 光物性 / 表面・界面物性 / 超格子 |
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| 研究概要 |
我々の独自技術である窒化物半導体のステップフリー面[1分子層のステップも存在しないデバイスサイズ(16 ミクロン以上)の大きさの完全平滑面]の形成技術を用いて、理想的なヘテロ界面を有するステップフリーInN 量子井戸を作製した。ステップフリーInN 量子井戸は、厚さが1 分子層であり、紫色の極めて鋭い(スペクトルの幅が狭い)発光を示した。今後、量子井戸の厚さを制御することにより緑色や赤色の高効率発光が理論的に期待される。
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