研究課題
基盤研究(B)
反応性プラズマプロセスに斜め堆積法を適用することにより作製した微絨毛状 InN 薄膜の耐久性劣化の要因が,薄膜表面への In(OH)3 微粒子の析出にあることを明らかにした.
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