| 研究課題/領域番号 |
22360335
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
触媒・資源化学プロセス
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
大山 茂生 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (50572939)
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| 研究分担者 |
菊地 隆司 東京大学, 大学院・工学系研究科, 准教授 (40325486)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
19,630千円 (直接経費: 15,100千円、間接経費: 4,530千円)
2012年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2011年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2010年度: 9,620千円 (直接経費: 7,400千円、間接経費: 2,220千円)
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| キーワード | 無機膜 / 水素分離 / 透過機構 / アモルファスシリカ / CVD / 膜反応器 / 水蒸気 改質 / 水素透過膜 / 水蒸気改質 |
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| 研究概要 |
物質輸送と触媒反応を組み合わせた先進的なメンブレンリアクタの開発を行うことを目的とした.高い水素透過率および選択率を有するアモルファスシリカからなるガス分離無機膜をCVD法により作製した.得られた膜における種々のガスの透過機構について明らかにした.メンブレンリアクタを用いた水蒸気改質反応において,高い転化率および水素モル流量が見られた.また,工業化に求められる水素透過率の目安を明らかにした.
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