研究課題
基盤研究(C)
Si、Ge のバンド異方性と印加した種々の歪みの方向、伸縮のシナジー効果により、バンド構造が顕著に変化する。Si価電子帯について、歪みにより誘起されるバルクバンド、表面サブバンドの異方性を解析し、ホ-ル移動度の向上に寄与する歪みを探索した。また、結晶単位胞内の2つの原子の相対変位(内部歪み)がバンドに及ぼす顕著な効果を明らかにした。Geの間接-直接バンドギャップ転移を起こす1軸伸張の方向、2軸伸張の面方位を見出し、転移が起こる歪み量を評価した。角度分解光電子分光法でSi価電子帯を測定し、2軸伸張により小さい面内ホール有効質量を持つバンドが価電子帯頂上に持ち上がることが分かった。
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