| 研究課題/領域番号 |
22540400
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
数理物理・物性基礎
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| 研究機関 | 東京電機大学 |
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研究代表者 |
小田垣 孝 東京電機大学, 理工学部, 教授 (90214147)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2011年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2010年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | 非平衡統計力学 / 密度汎関数理論 / 自由エンルギーランドスケープ / ガラス転移 / 温度変調応答 / 比熱・エントロピー / 協調緩和領域 / 初到達時間 / 非平衡系 / 統計力学 / 物性理論 / 自由エネルギーランドスケープ / 構造エントロピー / 繰り込み群 / ランジュバン方程式 / 誘電緩和 / LJGポテンシャル |
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| 研究概要 |
自由エネルギーランドスケープ(FEL)描像を用いて、ガラス形成過程の解析を行った。まず、構造エントロピーに二種類の寄与があることを示した。次いで、剛体球系の緩和時間と充填率の関係が Vogel-Fulcher 則と矛盾がないことを示し、緩和時間の発散が協調緩和領域の大きさに依存することを示した。分子動力学シミュレーションにより2次元Lennard-Jones-Gauss (LJG) 系のガラス化過程の FEL を明らかにした。また、3 次元 LJG系のガラス転移に関わる特異温度が、FEL 描像から導かれる Odagaki Rule を満たすことを示した。さらに、FEL 描像を用いて高分子の誘電緩和を解析し、誘電測定から三つの特異温度が決定できることを示した。
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