| 研究課題/領域番号 |
22540501
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 茨城大学 |
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研究代表者 |
池畑 隆 茨城大学, 理工学研究科, 教授 (00159641)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2012年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2010年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | 放電 / 金属プラズマ源 / スパッタリング / 金属イオン源 / 大電力パルス放電 / 薄膜合成 / 熱電半導体 / マグネシウムシリサイド / 結晶構造 / プラズマ / 薄膜形成 / グロー放電 / パルスパワー / 金属イオン / 磁場閉じ込め |
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| 研究概要 |
大電力パルスマグネトロンスパッタ(HPPMS)の放電特性解明 を主目的に電圧電流密度特性や発光スペクトルを詳しく調べた結果、HPPMSは異常グローモードで動作しており、放電領域が陰極全面に広がり、電子閉じ込めが悪化していることで電圧が顕著に上昇していることがわかった。また、新規な高密度金属イオン源として、プラズマドリフトを用いて磁場を横切ってイオンを引き出す不均一ペニングスパッタ装置を考案した。
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