| 研究課題/領域番号 |
22540506
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
吉村 智 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (40294029)
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| 連携研究者 |
安田 誠 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (40273601)
木内 正人 独立行政法人産業技術総合研究所, ユビキタスエネルギー研究部門, 主任研究員 (50356862)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2012年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2011年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2010年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | インジウム / イオン / 触媒化学 / 触媒 / イオンビーム |
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| 研究概要 |
近年、化学分野においてインジウムとケイ素の相互作用により発現する触媒効果が注目されている。そこで我々は、酸化ケイ素基板へインジウムイオンを注入する実験を行った。そして、インジウム注入酸化ケイ素基板がベンズヒドロールとアセチルアセトン間の化学反応を促進する触媒として機能することを発見した。次に、触媒効果のイオンエネルギーおよびイオンドース量への依存性を調べた。その結果、触媒効果の発現に最適なエネルギーとドースの組み合わせが存在することが明らかになった。
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