| 研究課題/領域番号 |
22550107
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
斎藤 礼子 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 准教授 (30225742)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | 高分子合成 / 立体規則性制御 / ラジカル重合 / ヘテロタクチック / 立体規則性 / ジビニルモノマー / シンジオタクチック / 包接錯体 |
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| 研究概要 |
ジビニルモノマーおよび、疑似ジビニルモノマーを用い、ビニル基の空間を溶液中、重合時に精密に制御しすることで、ラジカル重合で簡便かつグリーンに立体規則性の精密制御に成功した。メタクリル酸と、カテコールを用いた場合、両者を共有結合とした場合には、ヘテロタクチックポリマーが、水素結合とした場合には高シンジオタクチックポリマーが得られた。モノマー包接錯体の精密制御では、ヘテロタクチックポリマーが得られた。得られたポリマーは新規材料であった。
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