| 研究課題/領域番号 |
22550179
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
吉武 英昭 横浜国立大学, 工学研究院, 准教授 (20230716)
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| 研究期間 (年度) |
2010-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2013年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2012年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2011年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
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| キーワード | メソポーラスシリカ / ナノリアクター / 表面修飾 / 酸化触媒 / 酵素活性 / シップインボトル合成 / 部分酸化触媒 / シクロヘキセン酸化 / 選択性 / メソ細孔性シリカ / グラフト法 / 吸着 / オキシアニオン |
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| 研究概要 |
大きさの揃ったメソ細孔により高表面積を実現しているシリカ物質の表面修飾に関しては、この細孔自体がナノリアクターとして働くにもかかわらずその側面から、合成、構造解析、機能解析を展開した研究例はほとんどなかった。ナノリアクターの触媒化には表面修飾が避けられないため、その基本的な学術を構築することを目的とした。表面修飾処理の順番、拡散速度と表面反応速度の制御により異なる表面構造を構築する。それにより合成の可能性を追求する。アミンと金属イオン配位子との反応において、様々な表面構造が上記の方法により得られ、それぞれの部分酸化触媒機能には大きな差が生じることを初めて明らかにできた。
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