ErYSIOシリケート結晶の発光過程におけるErイオン間エネルギー移動の評価

• 研究課題/領域番号: 22560003
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 応用物性・結晶工学
• 研究機関: 電気通信大学
• 研究代表者: 木村 忠正 電気通信大学, 名誉教授 (50017365)
• 研究分担者: 一色 秀夫 電気通信大学, 大学院・情報理工学研究科, 教授 (60260212)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2012
• 研究課題ステータス: 完了 (2012年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2010年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
• キーワード: シリコンフォトニクス / Erシリケート / 4f内殻遷移 / エネルギーマイグレーション / 協同アップコンバーション / 光学利得 / シリコン光増幅器 / シリコン発光素子 / エルビウムシリケート / 発光素子 / 光増幅器 / クエンチングメカニズム / 拡散律速モデル / シリコンフォトニク / 光源技術 / 光物性 / テラヘルツ/赤外材料・素子 / 光導波路 / 希土類元素 / 結晶成長

研究概要

高密度Er(1.6×1022/cm3)を含むエルビウムシリケート(Er2SiO5)は、シリコンフォトニクスにおける光源,光増幅器の材料として有望であるが,Er間のエネルギー移動が非発光遷移の要因となり,Erの1.53μm発光遷移の効率を制限している。本研究ではErxY2-xSiO5結晶を用いてEr間距離(Er密度x)を変え,エネルギー移動による非発光遷移の要因,大きさを評価した。x～0.1(Er密度～1×1021/cm3)でエネルギー移動による非発光がほぼ無くなった。長さ500μmの光導波路を作製し,30dB/cmの光利得を得た。

研究成果

• [雑誌論文] Emission and optical properties of Si slot ErxY2-xSiO5 waveguides, Nanophotonics and Micro/Nano Optics (2013)
  • 著者名/発表者名: Isshiki, Hideo; Zulkefli, Zul Izwan Bin; Nakajima, Takayuki; Sato, Takuya; Kimura, Tadamasa
  • 雑誌名: Proceedings of the SPIE 巻: Vol.8564 ページ: 856404-856404
  • DOI: 10.1117/12.2001322
  • 査読あり
• [雑誌論文] Suppression of scattering loss in Erbium-Yttrium Silicate crystalline waveguide fabricated by radical-assisted sputtering (2012)
  • 著者名/発表者名: T. Nakajima
  • 雑誌名: 9th IEEE International conference on Group IV Photonics (GFP2012) Conference proceedings 巻: 10.1109 ページ: 243-245
  • DOI: 10.1109/group4.2012.6324147
  • 査読あり
• [雑誌論文] Extraordinary infraredphoto-luminescence efficiency of Er0.1Yb1.9SiO5 films on SiO2/Si substrates (2011)
  • 著者名/発表者名: X. J. Wang, B. Wang, L. Wang, R. M. Guo, H. Isshiki, T. Kimura, and Z. Zhou
  • 雑誌名: A.P.L. 巻: Vol.98 号: 7
  • DOI: 10.1063/1.3554750
  • 査読あり
• [雑誌論文] Extraordinary infrared photoluminescence efficiency of Er_<0.1>IYb_<1.9>SiO_5 films onSiO_2/Si substrates (2011)
  • 著者名/発表者名: X.J.Wang, B.Wang, L.Wang, R.M.Guo, H.Isshiki, T.Kimura, Z.Zhou
  • 雑誌名: APPLIED PHYSICS LETTERS 巻: 98
  • 査読あり
• [雑誌論文] Photoluminescence enhancement and high gain amplification of ErxY2-xSiO5 waveguide (2010)
  • 著者名/発表者名: Wang, X.J. ; Yuan, G. ; Isshiki, H. ; Kimura, T. ; Zhou, Z
  • 雑誌名: J.A.P. 巻: Vol.108 号: 1
  • DOI: 10.1063/1.3446822
  • 査読あり
• [雑誌論文] Photoluminescence enhancement and high gain amplification of Er_xY_<2-x>SiO_5 waveguide (2010)
  • 著者名/発表者名: X.J.Wang, G.Yuan, H.Isshiki, T.Kimura, Z.Zhou
  • 雑誌名: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 巻: 108
  • 査読あり
• [雑誌論文] Evaluation of optical absorption and light propagation loss in Er_xY_<2-x>SiO_5 crystal waveguides (2010)
  • 著者名/発表者名: K.Homma, T.Nakaj ima, T.Kimura, H.lsshiki
  • 雑誌名: Proc.of the SSDM 2010 ページ: 1074-1075
• [雑誌論文] Migration-limited relaxation in Er_xY_<2-X>SiO_5 crystals (2010)
  • 著者名/発表者名: T.Nakaj ima, T.Kimura, H.Isshiki
  • 雑誌名: Proc.of the SSDM 2010 ページ: 427-428
• [学会発表] Suppression of scattering loss in Erbium-Yttrium Silicate crystalline waveguide fabricated by radical-assisted sputtering (2012)
  • 著者名/発表者名: Takayuki Nakajima et al
  • 学会等名: GFP 2012, ThP2
  • 発表場所: San Diego, CA,USA
  • 年月日: 2012-08-30
• [学会発表] High Optical Gain in ErxY2-xSiO5 Slot Waveguides and Possibility for Compact Light Amplifiers and Optical Sources, ICOOPMA 2012 (Fifth International Conference on Optical (2012)
  • 著者名/発表者名: Tadamasa Kimura et al
  • 学会等名: Optoelectronic and Photonic Materials and Applications)
  • 発表場所: Nara Prefectural New Public Hall, Nara, Japan
  • 年月日: 2012-06-07
• [学会発表] Emission and optical properties of Si slot ErxY2-xSiO5 waveguides (2012)
  • 著者名/発表者名: Isshiki, Hideo et al
  • 学会等名: Nanophotonics and Micro/Nano Optics
  • 発表場所: Beijing, China
• [学会発表] Fabrication of Er silicate crystalline waveguide by directed self-assembly approach using radical assisted sputtering (2012)
  • 著者名/発表者名: T. Nakajima et al.
  • 学会等名: SSDM 2012,A-2-6 (2012.9.25)
  • 発表場所: Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan
• [学会発表] Sensitization Effect for Er^<3+> Luminescence at 1.53μm in Highly Oriented Er_xYb_yY_<2-x-y>SiO_5 Thin Film Fabricated by Pulsed Laser Deposition (2011)
  • 著者名/発表者名: Y.Jiang, T.Nakajima, T.Shinagawa, H.Isshiki
  • 学会等名: The 1st International Symposium on Photonics and Electronics Convergence-Advanced Nanophotonics and Silicon Device Systems-(ISPEC2011), P-5
  • 発表場所: The University of Tokyo, Tokyo, Japan
  • 年月日: 2011-11-15
• [学会発表] Characterization of Er_xY_<2-x>SiO_5 Crystal Thin Films Prepared by Eadical Assisted Sputtering (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Shinagawa, T.Sugawara, Y.Jiang, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: The 1st International Symposium on Photonics and Electronics Convergence-Advanced Nanophotonics and Silicon Device Systems-(ISPEC2011), P-29
  • 発表場所: The University of Tokyo, Tokyo, Japan
  • 年月日: 2011-11-15
• [学会発表] Annealing Temperature Dependence of Emission Properties from ErLaSiO Thin Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Inoue, T.Nakajima, H.Isshiki
  • 学会等名: The 1st International Symposium on Photonics and Electronics Convergence-Advanced Nanophotonics and Silicon Device Systems-(ISPEC2011), P-30
  • 発表場所: The University of Tokyo, Tokyo, Japan
  • 年月日: 2011-11-15
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5 Waveguide Optical Amplifier Using Si Photonic Crystal Slot (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Sato, T.Nakajima, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: The 1st International Symposium on Photonics and Electronics Convergence-Advanced Nanophotonics and Silicon Device Systems-(ISPEC2011)-42
  • 発表場所: The University of Tokyo, Tokyo, Japan
  • 年月日: 2011-11-15
• [学会発表] Strong Suppression of Scattering Loss in Er_<0.45>Y_<1.55>SiO_5 System (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Nakajima, T.Shinagawa, Y.Jiang, T.Sugawara, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: The 1st International Symposium on Photonics and Electronics Convergence-Advanced Nanophotonics and Silicon Device Systems-(ISPEC2011), P-43
  • 発表場所: The University of Tokyo, Tokyo, Japan
  • 年月日: 2011-11-15
• [学会発表] Strong suppression of scattering loss in Er_<0.4>Y_<1.6>SiO_5 crystalline waveguides (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Nakajima, T.Shinagawa, Sugawara, Y.Jiang, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2011), I-5-2
  • 発表場所: 愛知県産業労働センターウインクあいち(愛知県名古屋市)
  • 年月日: 2011-09-29
• [学会発表] Er_xY<2-x>SiO_5 compact waveguide slotted into Si photonic crystal (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Sato, T.Nakajima, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2011), I-5-3
  • 発表場所: 愛知県産業労働センターウインクあいち(愛知県名古屋市)
  • 年月日: 2011-09-29
• [学会発表] ErxY2-xSiO5 compact waveguide slotted into Si photonic crystal (2011)
  • 著者名/発表者名: H. Isshiki et al.
  • 学会等名: E-MRS 2011 Fall Meeting, Symposium :J Rare earth doped semiconductors and nanostructures for photonics
  • 発表場所: Warsaw, Poland
  • 年月日: 2011-09-19
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5 compact waveguide slotted into Si photonic crystal (2011)
  • 著者名/発表者名: H.Isshiki, T.Sato, T.Shinagawa, T.Nakajima, T.Kimura
  • 学会等名: E-MRS 2011 Fall Meeting, Symposium : J "Rare earth doped semiconductors and nanostructures for photonics"
  • 発表場所: Warsaw, Poland
  • 年月日: 2011-09-19
• [学会発表] Enhanced Er3+ luminescence by control of energy- migration in ErxY2-xSiO5 crystalline systems (2011)
  • 著者名/発表者名: Tadamasa Kimura et al.
  • 学会等名: E-MRS 2011 Fall Meeting, Symposium: J"Rare earth doped semiconductors and nanostructures for photonics
  • 発表場所: Warsaw, Poland
  • 年月日: 2011-09-18
• [学会発表] Enhanced Er^<3+>luminescence by control of energy-migration in Er_xY_<2-x>SiO_5 crystalline systems (2011)
  • 著者名/発表者名: Tadamasa Kimura, Hideo Isshiki
  • 学会等名: E-MRS 2011 Fall Meeting, Symposium : J "Rare earth doped semiconductors and nanostructures for photonics"
  • 発表場所: Warsaw, Poland(invited)
  • 年月日: 2011-09-18
• [学会発表] RAS法で作製したEr_xY_<2-x>SiO_5結晶薄膜の評価 (2011)
  • 著者名/発表者名: 品川達紀, 菅原卓哉, 姜友松, 木村忠正, 一色秀夫
  • 学会等名: 第72回応用物理学会学術講演会,1p-P11-16
  • 発表場所: 山形大学(山形県山形市)
  • 年月日: 2011-09-01
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5微結晶薄膜中の非発光遷移抑制についての検討 (2011)
  • 著者名/発表者名: 中島崇之, 木村忠正, 一色秀夫
  • 学会等名: 第72回応用物理学会学術講演会,1p-P11-17
  • 発表場所: 山形大学(山形県山形市)
  • 年月日: 2011-09-01
• [学会発表] Study on suppression of nonradiative processes in Er_xY_<2-x)SiO_5 crystallitesystem (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Nakajima, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: 30th Electronic Materials Symposium、Fr2-14
  • 発表場所: ラフォーレ琵琶湖(滋賀県守山市)
  • 年月日: 2011-07-01
• [学会発表] ErLaSiO crystalline thin films fabricated by pulsed laser deposition (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Inoue, T.Nakajima, H.Isshiki
  • 学会等名: 30th Electronic Materials Symposium、Fr2-15
  • 発表場所: ラフォーレ琵琶湖(滋賀県守山市)
  • 年月日: 2011-07-01
• [学会発表] Characterization of Er_xY_<2-x>SiO_5 films prepared by radical assisted sputtering (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Shinagawa, T.Sugawara, Y.Jiang, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: 30th Electronic Materials Symposium、Fr2-16
  • 発表場所: ラフォーレ琵琶湖(滋賀県守山市)
  • 年月日: 2011-07-01
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5 waveguide using Si photonic crystal slot (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Sato, K.Honma, T.Nakajima, T.Kimura, H.Isshiki
  • 学会等名: 30th Electronic Materials Symposium、Fr2-17
  • 発表場所: ラフォーレ琵琶湖(滋賀県守山市)｀
  • 年月日: 2011-07-01
• [学会発表] Characterization and Photonic Application of Er_xY_<2-x>SiO_5 Crystals Prepared by Layer-by-layer Deposition (2011)
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki, Kenji Iwatani, Tatsunori Shinagawa, Takayuki Nakajima, Tadamasa Kimura
  • 学会等名: MRS 2011 Spring Meeting, V1-6
  • 発表場所: Boston (USA)
  • 年月日: 2011-04-28
• [学会発表] Energy Transfer in Highly Oriented Er_xYb_yY_<2-x-y>SiO_5 Thin Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition (2011)
  • 著者名/発表者名: Fangli Jing, Takayuki Nakajima, Hideo Isshiki
  • 学会等名: MKS 2011 Spring Meeting、V1-10
  • 発表場所: Boston (USA)
  • 年月日: 2011-04-28
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5微結晶薄膜中の非発光遷移抑制についての検討 (2011)
  • 著者名/発表者名: 中島崇之, 桝本欣生, 木村忠正, 一色秀夫
  • 学会等名: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学(神奈川県厚木市)(講演会は中止)
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] ラジカルアシスタントスパッタリング(RAS)によるEr_xY_<2-x>SiO_5結晶薄膜の作製と評価 (2011)
  • 著者名/発表者名: 品川達紀, 菅原卓哉, 姜 友松, 木村忠正, 一色秀夫
  • 学会等名: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学(神奈川県厚木市)(講演会は中止)
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5 Crystal Preparation by the Layer-by-1ayer Deposition and itsApplication to the Waveguide Devices (2011)
  • 著者名/発表者名: H.lsshiki, K.lwatani, T.ShinagawaT.Nakaj ima, T.Kimura
  • 学会等名: 3rd International Conference on Silicon Photonics
  • 発表場所: Ghent Univ(Gent, Belgium)
  • 年月日: 2011-01-24
• [学会発表] Application of Si Photonic Crystal to Er_xY_<2-x>SiO_5 Crystal Waveguide Amplifiers (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Sato, T.Nakaj ima, T.Kimura, H.lsshiki
  • 学会等名: 3rd International Conference on Silicon Photonics
  • 発表場所: Ghent Univ(Gent, Belgium)
  • 年月日: 2011-01-24
• [学会発表] Observation of 30dB/cm gain in Si photonic crystal slot ErxY2-xSiO5 waveguide (2011)
  • 著者名/発表者名: T. Sato et al.
  • 学会等名: Conference: 8th IEEE International Conference on Group IV Photonics - GFP
  • 発表場所: The Royal Society London, United Kingdom
• [学会発表] Energy Transfer in Highly Oriented ErxYbyY2-x-ySiO5 Thin Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition (2011)
  • 著者名/発表者名: Fangli Jing et al.
  • 学会等名: MRS2011 Spring Meeting
  • 発表場所: Boston,USA
• [学会発表] Characterization and Photonic Application of ErxY2-xSiO5 Crystals (2011)
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki et al.
  • 学会等名: Prepared byLayer-by-layer Deposition, MRS 2011Spring Meeting V1.6
  • 発表場所: Boston, USA
• [学会発表] Observation of 30dB/cm gain in Si photonic crystal slot Er_xY_<2-x>SiO_5 waveguide (2011)
  • 著者名/発表者名: Sato, T.; Nakajima, T.; Kimura, T.; Isshiki, H.
  • 学会等名: Group IV Photonics (GFP), 2011 8th IEEE International Conference on
  • 発表場所: London, UK
• [学会発表] PLD法によるsi基板上へのEr_xY_<2-x>SiO_5結晶薄膜作製 (2010)
  • 著者名/発表者名: 岩谷賢治・一色秀夫
  • 学会等名: 光エレクトロニクス研究会
  • 発表場所: 機械振興会館(東京都港区)
  • 年月日: 2010-12-17
• [学会発表] Formation andCarrier Mediated Excitation of ErxY2-xSiO5Nanocrystallites in Si-rich Silicon Oxide(SRSO) (2010)
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki et al.
  • 学会等名: MRS 2010 Fall Meeting, Group IV Semiconductor Nanostructures and Applications
  • 発表場所: Boston, USA
  • 年月日: 2010-11-30
• [学会発表] Formation and Carrier Mediated Excitation of Er_xY_<2-x>SiO_5 Nanocrystallites in Si-rich Silicon Oxide(SRSO) (2010)
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki, Yoshiki Masumoto Masaki Oe, Tadamasa Kimura
  • 学会等名: MRS 2010 Fall Meeting, Group IV Semiconductor Nanostructures and Applications
  • 発表場所: Boston, USA
  • 年月日: 2010-11-30
• [学会発表] Absorption cross section of Er ions in Er_xY_<2-x>SiO_5 waveguide amplifier (2010)
  • 著者名/発表者名: K.Homma, T.Nakajima, T.Kimura, H.lsshiki
  • 学会等名: 29th Electronic Materials Symposium
  • 発表場所: ラフォーレ修善寺 (静岡県伊豆市)
  • 年月日: 2010-07-15
• [学会発表] Estimation of energy migration coefficient in Er_xY_<2-x>SiO_5 crystals (2010)
  • 著者名/発表者名: T.Nakajima, K.Homma, T.Kimura, H.lsshiki
  • 学会等名: 29th Electronic Materials Symposium
  • 発表場所: ラフォーレ修善寺 (静岡県伊豆市)
  • 年月日: 2010-07-15
• [学会発表] Role of energy transfer for the decay dynamics inErxY2-xSiO5 crystals (2010)
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki et al.
  • 学会等名: EMRS 2010 Spring Meeting, Session K: Rare earth doped materials for optical based technologies
  • 発表場所: Strasbourg, France
  • 年月日: 2010-06-11
• [学会発表] Role of energy transfer for the decay dynamics in Er_xY_<2-x>SiO_5 crystals (2010)
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki, Takayuki Nakajima, Yasuhito Tanaka, Tadamasa Kimura
  • 学会等名: EMRS 2010 Spring Meeting, Session K : Rare earthdoped materials for optical based technologies
  • 発表場所: Strasbourg(France)
  • 年月日: 2010-06-11
• [学会発表] Evaluation of energy migration of ErxY2-xSiO5 and optical gain at1.54μm (2010)
  • 著者名/発表者名: T.Kimura et al.
  • 学会等名: EMRS 2010 Spring Meeting, Session K: Rare earth doped materials for optical based technologies
  • 発表場所: Strasbourg, France
  • 年月日: 2010-06-07
• [学会発表] ErxY2-xSiO5crystals prepared by the layer-by-layerdeposition (2010)
  • 著者名/発表者名: Yasuhito Tanaka et al.
  • 学会等名: EMRS 2010 Spring Meeting, Session K: Rare earth doped materials for optical based technologies
  • 発表場所: Strasbourg, France
  • 年月日: 2010-06-07
• [学会発表] Evaluation of energy emigration of Er_xY_<2-x>SiO_5 and optical gain at 1.54um (2010)
  • 著者名/発表者名: T.Kimura, T.Nakajima Y.Tanaka, K.Homma, H.lsshiki
  • 学会等名: EMRS 2010 Spring Meeting, Session K : Rare earthdoped materials for optical based technologies
  • 発表場所: Strasbourg(France)
  • 年月日: 2010-06-07
• [学会発表] Er_xY_<2-x>SiO_5 crystals prepared by the layer-by-layer deposition (2010)
  • 著者名/発表者名: Yasuhito Tariaka, Kenj i Iwatani, Tadamasa Kimura, HideoIsshiki
  • 学会等名: EMRS 2010 Spring Meeting, Session K : Rare earthdoped materials for optical based technologies
  • 発表場所: Strasbourg(France)
  • 年月日: 2010-06-07
• [学会発表] Highly oriented ErxY2-xSiO5 crystalline thin films fabricated by pulsed laser deposition (2010)
  • 著者名/発表者名: H.Isshiki et al.
  • 学会等名: IEEE International Conference on Group IV Photonics - GFP
  • 発表場所: Beijing, China
• [学会発表] High Optical Gain in ErxY2-xO5 Slot Waveguides and Possibility for Compact Light Amplifiers and Optical Sources
  • 著者名/発表者名: Tadamasa Kimura
  • 学会等名: Fifth International Conference on Optical, Optoelectronic and Photonic Materials and Applications
  • 発表場所: Nara Prefectural New Public Hall, Nara, Japan
  • 招待講演
• [学会発表] Metallic composition dependence on Erbium Yttrium Silicate films fabricated by radical assisted sputtering
  • 著者名/発表者名: T. Shinagawa,
  • 学会等名: EMS 2012
  • 発表場所: ラフォーレ修善寺 （静岡県伊豆市）
• [学会発表] Cooperative upconversion in Er0.45Y1.55SiO5 crystalline waveguide
  • 著者名/発表者名: T. Nakajima
  • 学会等名: EMS 2012
  • 発表場所: ラフォーレ修善寺 （静岡県伊豆市）
• [学会発表] Electro-optic effect of ErxY2-xSiO5 crystals measured by electric field modulation reflectance spectroscopy
  • 著者名/発表者名: Y. Terada
  • 学会等名: EMS 2012
  • 発表場所: ラフォーレ修善寺 （静岡県伊豆市）
• [学会発表] Suppression of scattering loss in Erbium-Yttrium Silicate crystalline waveguide fabricated by radical-assisted sputtering
  • 著者名/発表者名: Nakajima, Takayuki
  • 学会等名: Group Four Photonics 2012
  • 発表場所: San Diego, CA,, USA
• [学会発表] Er0.45Y1.55SiO5結晶導波路におけるアップコンバージョン係数の評価
  • 著者名/発表者名: 中島崇之
  • 学会等名: 2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 愛媛大学/松山大学（愛媛県松山市）
• [学会発表] RAS法で作製したエルビウムイットリウムシリケイト薄膜の光学特性
  • 著者名/発表者名: 品川達紀
  • 学会等名: 2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 愛媛大学/松山大学（愛媛県松山市）
• [学会発表] Fabrication of Er silicate crystalline waveguide by directed self-assembly approach using radical assisted sputtering
  • 著者名/発表者名: T. Nakajima
  • 学会等名: SSDM 2012
  • 発表場所: Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan
• [学会発表] Sensitization Effect of 1.53 um Er3+-related Emission in ErxYbyY2-x-ySiO5 Crystal-line Thin Film Fabricated by Directed Self-assembly Using Layer-by-layer Deposition
  • 著者名/発表者名: F. Jing
  • 学会等名: SSDM 2012
  • 発表場所: Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan
• [学会発表] Emission and optical properties of Si slot ErxY2-xSiO5 waveguides
  • 著者名/発表者名: Hideo Isshiki
  • 学会等名: 2012 Photonics Asia
  • 発表場所: Beijing, , China
• [備考]
  • URL: http://flex.ee.uec.ac.jp/
• [備考] 木村研究発表論文等リスト
  • URL: http://flex.ee.uec.ac.jp/~t-kimura/research/papers.html
• [備考] Hideo Isshiki ホームページ
  • URL: http://flex.ee.uec.ac.jp/~hisshiki/index.html
• [備考] List of papers on rare earth doped semiconductors
  • URL: http://flex.ee.uec.ac.jp/~t-kimura/research/rareearthref.html
• [備考]
  • URL: http://flex.ee.uec.ac.jp/~t-kimura/t-kimura-e.html
• [備考]
  • URL: http://flex.ee.uec.ac.jp/japanese/index.html