| 研究課題/領域番号 |
22560025
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 琉球大学 |
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研究代表者 |
斉藤 正敏 琉球大学, 工学部, 教授 (00284951)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2010年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
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| キーワード | 内部応力 / 電析薄膜 / 動的スケーリング / 金電析 / 潜伏時間 / 応力振動 / その場観察 / スケーリング / 活性化エネルギー / べき乗則 / ノイズ / 応力緩和 / パルス電析 / 緩和機構 / 電気めっき / 薄膜 |
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| 研究概要 |
相転移を記述する動的スケーリング理論の枠組みでパルス電析及び電析に用いる添加物の効果を内部応力について統一的に記述するのが課題である。パルス電析において電流を流さない時間の作用について内部応力は、薄膜表面上の原子運動の緩和過程として記述できること、添加物が薄膜成長を阻害する作用をするquenched noiseとして扱うとスケーリングパラメーターが添加物濃度に依存すること、濃度依存しない及び依存する応力項から記述できることを明らかにした。更にその場観察による内部応力測定により、応力が生じない潜伏期間の後、振動しながら一定値近づく振る舞いをすることが見い出された。
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