| 研究課題/領域番号 |
22560113
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 香川大学 |
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研究代表者 |
須崎 嘉文 香川大学, 工学部, 教授 (60206456)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2012年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2011年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2010年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
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| キーワード | ナノ・マイクロ加工 / 大気圧低温プラズマ / 成膜方法 / 酸化亜鉛 / 大気圧プラズマ / 誘電体バリア放電 / グロー放電 / 透明導電性薄膜 / 大気圧CVD / 有機錯体材料 / ガス流れ / 大面積成膜 |
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| 研究概要 |
液晶ディスプレィや太陽電池などに利用する透明導電性薄膜を大面積に安価に作製する方法が求められている。そこで我々は、大気圧開放下で低温プラズマを発生し、それを用いた成膜システムを開発した。酸化亜鉛薄膜を大面積に均一に作製することを目的とした。スリット幅を 100 mm に拡大した装置について、端から端までの均一成膜を完成し、大面積成膜について可能なことがわかった。成膜速度の向上については課題が残った。
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