研究課題
基盤研究(C)
超音速不足膨張プラズマ噴流中に発生する衝撃波近傍の流れの印加磁場による変化を衝撃波の変形の測定から明らかにするために、デジタルカメラで撮影した画像の非圧縮 RAW ファイルから光強度を抽出して検討を行った。光強度の勾配から求めた反射衝撃波の開始位置での流れ方向に対する角度は反射衝撃波では印加磁場強さの増加とともに増加し、樽型衝撃波では減少した。マッハディスク下流の光強度の等高線は磁場強さの増加とともに明らかに変化し、無磁場の場合とは逆に中心部が両端に比べて上流側にある分布となった。また、このプラズマ噴流の超音速域に挿入した円錐プローブ先端から発生する斜め衝撃波の印加磁場による変化についても光強度を用いた検討を行った。Taylor-Maccoll の式を用いて斜め衝撃波の角度から求めた局所マッハ数は、磁場強さとともに増加する傾向を示した。
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