研究課題/領域番号 |
22560292
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
電子・電気材料工学
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研究機関 | 東京農工大学 |
研究代表者 |
鮫島 俊之 東京農工大学, 大学院・工学研究院, 教授 (30271597)
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研究分担者 |
水野 智久 神奈川大学, 理学部, 教授 (60386810)
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連携研究者 |
蓮見 真彦 東京農工大学, 大学院・工学研究院, 助教 (60261153)
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研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2010年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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キーワード | 作製 / 評価技術 / マイクロ波フリーキャリヤ吸収 / 少数キャリヤ実効ライフタイム / 高圧水蒸気熱処理 / パッシベーション / 酸素プラズマ酸化膜 / A10_x薄膜 / AlOx薄膜 / 光誘起フリーキャリヤ / マイクロ波吸収 / キャリヤライフタイム / キャリヤ再結合 / キャリヤ拡散 / 水蒸気熱処理 / レーザ加熱 / ソーラーセル / キャリヤ再接合 |
研究概要 |
635nm, 980nm二波長連続光照射誘起キャリヤ濃度及び少数キャリヤライフタイムτ_eff測定装置及び、多周期パルス光照射誘起キャリヤライフタイム測定装置を開発した。これら装置を用いてプラズマ、レーザ照射、試料カットにおけるτ_effの低下現象を解析し表面再結合欠陥の増大を明らかにした。また、高圧水蒸気熱処理、電子レンジ及びアモルファスシリコン成膜による欠陥低減効果を確認した。
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