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マイクロ波フリーキャリヤ吸収法による非熱平衡プロセス処理起因欠陥とその制御の研究

研究課題

研究課題/領域番号 22560292
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関東京農工大学

研究代表者

鮫島 俊之  東京農工大学, 大学院・工学研究院, 教授 (30271597)

研究分担者 水野 智久  神奈川大学, 理学部, 教授 (60386810)
連携研究者 蓮見 真彦  東京農工大学, 大学院・工学研究院, 助教 (60261153)
研究期間 (年度) 2010 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2010年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
キーワード作製 / 評価技術 / マイクロ波フリーキャリヤ吸収 / 少数キャリヤ実効ライフタイム / 高圧水蒸気熱処理 / パッシベーション / 酸素プラズマ酸化膜 / A10_x薄膜 / AlOx薄膜 / 光誘起フリーキャリヤ / マイクロ波吸収 / キャリヤライフタイム / キャリヤ再結合 / キャリヤ拡散 / 水蒸気熱処理 / レーザ加熱 / ソーラーセル / キャリヤ再接合
研究概要

635nm, 980nm二波長連続光照射誘起キャリヤ濃度及び少数キャリヤライフタイムτ_eff測定装置及び、多周期パルス光照射誘起キャリヤライフタイム測定装置を開発した。これら装置を用いてプラズマ、レーザ照射、試料カットにおけるτ_effの低下現象を解析し表面再結合欠陥の増大を明らかにした。また、高圧水蒸気熱処理、電子レンジ及びアモルファスシリコン成膜による欠陥低減効果を確認した。

報告書

(4件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実績報告書
  • 2010 実績報告書
  • 研究成果

    (52件)

すべて 2013 2012 2011 2010

すべて 雑誌論文 (15件) (うち査読あり 15件) 学会発表 (35件) 産業財産権 (2件)

  • [雑誌論文] Investigation of Silicon Surface Passivation by Microwave Annealing, Jpn2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys

      巻: Vol.52 号: 1R ページ: 11801-11801

    • DOI

      10.7567/jjap.52.011801

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Minority Carrier Annihilation in Lateral Direction Caused by Recombination Defects2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.52 号: 4R ページ: 41303-41303

    • DOI

      10.7567/jjap.52.041303

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H_2O Vapor2012

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa
    • 雑誌名

      Journal of Non-Crystalline Solids

      巻: Vol.358 ページ: 2285-2288

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Minority Carrier Lifetime Behavior in Crystalline Silicon in Rapid Laser Heating2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, K. Betsuin, T. Mizuno and N. Sano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.51 号: 3S ページ: 03CA04-03CA04

    • DOI

      10.1143/jjap.51.03ca04

    • NAID

      210000140376

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Combination of Amorphous Silicon Deposition with High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, T. Nagao, M. Hasumi, A.Shuku, E.Takahashi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.51 号: 3S ページ: 03CA06-03CA06

    • DOI

      10.1143/jjap.51.03ca06

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Laser Induced Formation of Buried Void Layer in Silicon2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, Y. Kanda , M. Hasumi, J. Tatemichi, Y. Inouchi, M. Naito
    • 雑誌名

      J. Laser Micro/Nanoengineering

      巻: Vol.7 号: 1 ページ: 93-96

    • DOI

      10.2961/jlmn.2012.01.0018

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Infrared semiconductor laser irradiation used for crystallization of silicon thin films2012

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima
    • 雑誌名

      Journal of Non-Crystalline Solids

      巻: 358 号: 17 ページ: 2162-2165

    • DOI

      10.1016/j.jnoncrysol.2011.12.030

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H2O Vapor2012

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa
    • 雑誌名

      Journal of Non-Crystalline Solids

      巻: 358 号: 17 ページ: 2285-2288

    • DOI

      10.1016/j.jnoncrysol.2012.01.057

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Infrared semiconductor laser irradiation used for crystallization of silicon thin films2011

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 雑誌名

      Journal of Non-Crystalline Solids

      巻: Vol.358 ページ: 2162-2165

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Minority Carrier Lifetime Measurements by Photo-Induced Carrier Microwave Absorption Method2011

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, T. Nagao, S. Yoshidomi, K. Kogure, and M. Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.50 号: 3S ページ: 03CA02-03CA02

    • DOI

      10.1143/jjap.50.03ca02

    • NAID

      210000070162

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of Plasma-Irradiated SiO_2/Si Interface Properties by Photoinduced-Carrier Microwave Absorption Method2011

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Nagao, and T. Sameshima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.50 号: 3S ページ: 03CA03-03CA03

    • DOI

      10.1143/jjap.50.03ca03

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of Plasma-Irradiated SiO_2/Si Interface Properties by Photoinduced-Carrier Microwave Absorption Method2011

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Hasumi, Jun Takenezawa, Tomokazu Nagao, Toshiyuki Sameshima
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys

      巻: Vol.50

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Minority Carrier Lifetime Measurements by Photo-Induced Carrier Microwave Absorption Method2011

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima, Tomokazu Nagao, Shinya Yoshidomi, Kazuya Kogure, Masahiko Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys

      巻: Vol.50

    • NAID

      210000070162

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Crystalline Silicon Solar Cells with Two Different Metals2010

    • 著者名/発表者名
      T. SAMESHIMA, K. KOGURE, M. HASUMI
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.49 号: 11R ページ: 110205-110205

    • DOI

      10.1143/jjap.49.110205

    • NAID

      40017377249

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Crystalline Silicon Solar Cells with Two Different Metals2010

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki SAMESHIMA, Kazuya KOGURE, Masahiko HASUMI
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys

      巻: Vol.49 ページ: 110205-110205

    • NAID

      40017377249

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Passivation of Silicon Surface by Laser Rapid Heating2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Laser Precision Microfabrication
    • 発表場所
      朱鷺メッセ新潟コンベンションセンター(新潟)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Passivation of Silicon Surface by Laser Rapid Heating2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Laser Precision Microfabrication
    • 発表場所
      Niigata, 朱鷺メッセ新潟コンベンションセンター
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Annihilation Property for Crystalline Silicon Surfaces2012

    • 著者名/発表者名
      J. Furukawa
    • 学会等名
      Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Multiple Wavelength Light Induced Carrier Microwave Absorption Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Increase in Minority Carrier Lifetime Measured by Microwave Irradiation Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Formation of Aluminum Oxide Films on Silicon Surface by Aluminum Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Nagatomi
    • 学会等名
      Materials Research Society
    • 発表場所
      San Francisco, モスコーニウエストコンベンションセンター(USA)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Decrease in Minority Carrier Lifetime of Crystalline Silicon Caused by Rapid Heating2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Materials Research Society
    • 発表場所
      San Francisco, モスコーニウエストコンベンションセンター(USA)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Passivation of Silicon Surfaces by Formation of Thin Silicon Oxide Films Formed by Combination of Induction-Coupled Remote Oxygen Plasma with High Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2012

    • 著者名/発表者名
      H. Abe
    • 学会等名
      San Francisco
    • 発表場所
      モスコーニウエストコンベンションセンター(USA)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Formation of Aluminum Oxide Films on Silicon Surface by Aluminum Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Nagatomi
    • 学会等名
      Materials Research Society
    • 発表場所
      San Francisco, USA, モスコーニウエストコンベンションセンター
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Decrease in Minority Carrier Lifetime of Crystalline Silicon Caused by Rapid Heating2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Materials Research Society
    • 発表場所
      San Francisco, USA, モスコーニウエストコンベンションセンター
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Passivation of Silicon Surfaces by Formation of Thin Silicon Oxide Films Formed by Combination of Induction-Coupled Remote Oxygen Plasma with High Pressure H2O Vapor Heat Treatment2012

    • 著者名/発表者名
      H. Abe
    • 学会等名
      Materials Research Society
    • 発表場所
      San Francisco, USA, モスコーニウエストコンベンションセンター
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Annihilation Property for Crystalline Silicon Surfaces2012

    • 著者名/発表者名
      J. Furukawa
    • 学会等名
      Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      Kyoto, 龍谷大学アバンティ響都ホール
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Multiple Wavelength Light Induced Carrier Microwave Absorption Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      Kyoto, 龍谷大学アバンティ響都ホール
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Increase in Minority Carrier Lifetime Measured by Microwave Irradiation Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      Kyoto, 龍谷大学アバンティ響都ホール
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment Used to Improve Polycrystalline Solar Cell Characteristics2011

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa, M. Hasumi, and T. Sameshima
    • 学会等名
      The Eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
  • [学会発表] Change in Minority Carrier Lifetime Caused by Rapid Laser Heating2011

    • 著者名/発表者名
      K. Betsuin, Y. Kanda, W. Kato, S.Yoshidomi, M. Hasumi T. Sameshima, N. Sano, and T. Mizuno
    • 学会等名
      The Eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
  • [学会発表] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Amorphous Silicon Deposition Followed by High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2011

    • 著者名/発表者名
      T. Nagao, M. Hasumi, T. Sameshima, and Y. Andoh
    • 学会等名
      The Eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
  • [学会発表] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Micro Crystalline Silicon Deposition Followed by High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2011

    • 著者名/発表者名
      T. Nagao, T. Sameshima, Y. Andoh, A. Shuku and E. Takahashi
    • 学会等名
      8_th Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Laser Induced Formation of Buried Void Layer in Silicon2011

    • 著者名/発表者名
      Y. Kanda, T. Sameshima, M. Hasumi, J. Tatemichi, Y. Inouchi, and M. Naito
    • 学会等名
      The 12_th International Symposium on Laser Precision Microfabrication
    • 発表場所
      かがわ国際会議場・サンポート高松(高松市)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Laser Induced Formation of Buried Void Layer in Silicon2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Kanda, T.Sameshima, M.Hasumi, J.Tatemichi, Y.Inouchi
    • 学会等名
      The 12th International Symposium on Laser Precision Microfabrication
    • 発表場所
      かがわ国際会議場・サンポート高松(高松市)
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Micro Crystalline Silicon Deposition Followed by High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment2011

    • 著者名/発表者名
      T.Nagao, T.Sameshima, Y.Andoh, A Shuku, E.Takahashi
    • 学会等名
      8th Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Crystalline Silicon Solar Cells With Two Different Metals2010

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, K. Kogure, and M. Hasumi
    • 学会等名
      Proc in 7_th Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      百年会館(奈良)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Oxygen Plasma Followed by High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment Used for Passivation of Silicon Surfaces2010

    • 著者名/発表者名
      S. Yoshidomi, M. Hasumi and T. Sameshima
    • 学会等名
      Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      百年会館(奈良)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurement by Photo-Induced Carrier Microwave Absorption Method2010

    • 著者名/発表者名
      T. Nagao, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Sameshima and T. Mizuno
    • 学会等名
      Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      百年会館(奈良)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2010 実績報告書
  • [学会発表] Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors2010

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 学会等名
      218^<th> Electrochemical Society Meeting
    • 発表場所
      Riviera Hotel, Las Vegas (USA)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Stacked Solar Cells using Transparent and Conductive Adhesive2010

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa, M. Hasumi, T. Sameshima, T. Koida, T. Kaneko, M. Karasawa and M. Kondo
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      東京大学本郷キャンパス(東京)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Crystalline Silicon Solar Cells Used with Al and Au Metals2010

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, K. Kogure and M. Hasumi
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      東京大学本郷キャンパス(東京)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2010 実績報告書
  • [学会発表] Characterization of Plasma Irradiated Properties by Photo Induced Carrier Microwave Absorption Method2010

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Nagao and T. Sameshima
    • 学会等名
      2010 The Seventeenth International Workshop on Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      東京工業大学ディジタル多目的ホール(東京)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2010 実績報告書
  • [学会発表] HIGH PRESSURE H_2O VAPOR HEAT TREATMENT FOR IMPROVEMENT IN PASSIVATION LAYERS OF CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS2010

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Nagao, Y. Kanda and T. Sameshima
    • 学会等名
      RENEWABLE ENERGY 2010
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] HIGH PRESSURE H2O VAPOR HEAT TREATMENT FOR IMPROVEMENT IN PASSIVATION LAYERS OF CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS2010

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Hasumi, Jun Takenezawa, Tomokazu Nagao, Yasushi Kanda, Toshiyuki Sameshima
    • 学会等名
      RENEWABLE ENERGY 2010
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川)
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Microwave Photo-Induced Carrier Absorption Method2010

    • 著者名/発表者名
      T.Nagao, J.Takenezawa, M.Shimokawa, M.Hasumi, T.Sameshima
    • 学会等名
      2010 The Seventeenth International Workshop on Active Matrix Flat Panel Displays
    • 発表場所
      東京工業大学ディジタル多目的ホール(東京)
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Stacked Solar Cells using Transparent and Conductive Adhesive2010

    • 著者名/発表者名
      J.Takenezawa, M.Hasumi, T.Sameshima, T.Koida, T.Kaneko, M.Karasawa, M.Kondo
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      東京大学本郷キャンバス(東京)
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors2010

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima
    • 学会等名
      218^<th> Electrochemical Society Meeting
    • 発表場所
      Riviera Hotel, Las Vegas (USA) 招待講演
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Crystalline Silicon Solar Cells With Two Different Metals2010

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima, Kazuya Kogure, Masahiko Hasumi
    • 学会等名
      Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      百年会館(奈良)
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Oxygen Plasma Followed by High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment Used for Passivation of Silicon Surfaces2010

    • 著者名/発表者名
      S.Yoshidomi, M.Hasumi, T.Sameshima
    • 学会等名
      Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
    • 発表場所
      百年会館(奈良)
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [産業財産権] 半導体基板の処理方法2012

    • 発明者名
      鮫島俊之
    • 権利者名
      国立大学法人東京農工大学
    • 産業財産権番号
      2012-034288
    • 出願年月日
      2012-02-20
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
  • [産業財産権] 光誘起キャリヤライフタイム測定装置及び光誘起キャリヤライフタイム測定方法2011

    • 発明者名
      鮫島俊之
    • 権利者名
      国立大学法人東京農工大学
    • 産業財産権番号
      2011-276215
    • 出願年月日
      2011-12-16
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書

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公開日: 2010-08-23   更新日: 2019-07-29  

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