| 研究課題/領域番号 |
22560707
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
構造・機能材料
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| 研究機関 | 金沢工業大学 |
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研究代表者 |
岸 陽一 金沢工業大学, 工学部, 教授 (70265370)
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| 研究分担者 |
池永 訓昭 金沢工業大学, ものづくり研究所, 講師 (30512371)
矢島 善次郎 金沢工業大学, 工学部, 教授 (60148145)
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| 連携研究者 |
作道 訓之 金沢工業大学, 工学部, 教授 (20267719)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2010年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | インテリジェント材料 / 非平衡相薄膜材料 / 形状記憶合金 / 相変態 |
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| 研究概要 |
多元素同時スパッタリング装置に基板加熱及び基板へのイオン照射機構を取り付けた装置を開発した.本装置を使用することで,基板温度が353Kであっても結晶化したTiNi合金薄膜を得ることが可能となった.ポリイミド箔上にTiNi合金薄膜を付与し,カンチレバー状に加工した素子に0.1Hz周期で電圧を印加したところ,良好な二方向形状回復動作を示した.強磁性形状記憶合金とチタン酸ジルコン酸鉛の積層材も作製し評価したところ,良好な電気磁気効果を示した.したがって,TiNi合金薄膜と高分子圧電材料の機能複合化も実現できるものと考えている.
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