| 研究課題/領域番号 |
22560733
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 甲南大学 |
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研究代表者 |
縄舟 秀美 甲南大学, フロンティアサイエンス学部, 教授 (60156007)
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| 研究協力者 |
赤松 謙祐 甲南大学, フロンティアサイエンス学部, 教授 (60322202)
鶴岡 孝章 甲南大学, フロンティアサイエンス学部, 講師 (20550239)
有村 英俊 甲南大学, 大学院・自然科学研究科, 博士
中道 良太 甲南大学, 大学院・フロンティアサイエンス研究科, 修士課程・生命化学専攻
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2012年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
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| キーワード | めっきプロセス / 光触媒 / 銅微細回路 / 光化学還元法 / 環境調和型無電解銅めっき / 局部分極曲線 / 析出機構 / 混成電位理論 / SiCパワーデバイス周辺技術 / 無電解Biめっき / 銅(II)の還元機構 / 銅回路 / パターニング / 湿式プロセス / 光還元 / ガラス基板 |
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| 研究概要 |
ガラス基板上に銅微細回路を形成することを目的として、カルボン酸を電子ドナーとする光化学還元法について検討した。銅イオンの光化学還元法は、紫外光照射部全面で起こるが、それを水で洗浄すると予めガラス基板上に形成した疎水性のn-オクタデシルトリメトキシシランパターン上にのみ銅析出物が残存した。局部分極曲線の測定の結果、本研究の光化学還元法において混成電位理論が成立することが明らかとなった。
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