| 配分額 *注記 |
23,140千円 (直接経費: 17,800千円、間接経費: 5,340千円)
2012年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円)
2011年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円)
2010年度: 10,920千円 (直接経費: 8,400千円、間接経費: 2,520千円)
|
|---|
| 研究概要 |
連続生成が可能である気相流動CVDプロセスにてCNTの直径と長さの独立制御を行った.本研究ではレーザーアブレーションで発生させたナノ粒子を1台目のDMAでサイズ選別し,それを触媒とするCVD法でCNTを生成し直径を制御した.また2台のDMAをタンデム状に接続することによって,直径を制御したCNTを2台目のDMAにて,長さによるサイズ選別も行った.本技術はナノワイヤー状物質のオンライン計測や標準粒子の生成に貢献できるものと考えられる
|
