| 研究課題/領域番号 |
22750110
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
高分子化学
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
井上 倫太郎 京都大学, 化学研究所, 助教 (80563840)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 高分子薄膜 / 表面 / ガラス転移温度 / 中性子反射率 / ガラス転移 / 中性子散乱 |
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| 研究概要 |
高分子薄膜の物性はバルクと大きく異なることが知られている。そこで、高分子薄膜の特異物性の原因を探るため,我々は中性子反射率法により高分子薄膜の表面・界面近傍の物性を調べた。その結果、高分子薄膜の表面近傍の運動性はバルクと比較して高く、一方界面近傍の運動性はバルクと比較して著しく低下することが明らかとなった。即ち最終的な高分子薄膜の物性は薄膜の表面・界面物性の言わばバランスに起因することが分かった。
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