| 研究課題/領域番号 |
22750187
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
坂倉 政明 京都大学, 次世代低炭素ナノデバイス創製ハブ, 特定専門業務職員 (90402958)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2010年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | ガラス / レーザー加工 / 組成分布制御 / 液晶空間光変調器 / フェムト秒レーザー / 温度圧力分布 / 熱拡散シミュレーション / 元素組成分布 / ダイナミクス |
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| 研究概要 |
高繰り返しフェムト秒レーザー照射によるガラス内部の元素分布変化(組成分布変化)の制御方法を開発した。元素分布変化には温度分布や冷却速度が重要であるため、複雑な温度分布を形成させるための多点同時レーザー照射システムを開発し、照射の繰返しを選ぶことで冷却速度を制御した。同時に、元素分布変化に伴う熱変形を解析することにより、照射中の温度分布と熱変形メカニズムを明らかにした。多点同時照射システムと温度分布解析により、元素分布の形状を制御することが可能になった。また、実験とシミュレーションの比較により元素移動の駆動因子を明らかにした。
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