高圧熱処理技術によるアパタイト薄膜の作製と組成制御による新機能探索

• 研究課題/領域番号: 22760014
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 応用物性・結晶工学
• 研究機関: 独立行政法人物質・材料研究機構
• 研究代表者: 中根 茂行 独立行政法人物質・材料研究機構, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, MANA研究者 (40354302)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2011
• 研究課題ステータス: 完了 (2011年度)
• 配分額: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円); 2011年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円); 2010年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
• キーワード: 超臨界 / 成膜 / アパタイト / 新機能材料

研究概要

本研究期間では、まず、超臨界二酸化炭素を用いた成膜技術の開発を行い、石英基板上に透明なTiO_2薄膜を成膜することに成功した。現在は、膜質の更なる高品位化を目指し、当該装置の改良に取り組んでいる。この改良で、世界的に見ても希少な独自の成膜技術が完成する予定である。また、上記技術をハイドロキシアパタイト(HAp)の成膜技術に発展させるため、超臨界二酸化炭素中のHApを作製する条件探索を行った。その結果、高純度なHAp試料を低温短時間で容易に作製できる条件を見出した。現在は、これらの成果をまとめる研究に取り組んでいる。