13nm高次高調波の時間コヒーレンス100倍改善法の開発

• 研究課題/領域番号: 22760029
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 薄膜・表面界面物性
• 研究機関: 兵庫県立大学
• 研究代表者: 原田 哲男 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2011
• 研究課題ステータス: 完了 (2011年度)
• 配分額: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円); 2011年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2010年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
• キーワード: 応用光学 / EUV / 高次高調波 / コヒーレンス / コヒーレント回折イメージング

研究概要

波長13.5nmのEUVでのレンズレス顕微鏡用の観察手法を開発した.対象とする試料は半導体回路の原板となるEUVマスクである.回折画像からの像再生アルゴリズムとして,タイコグラフィー法を適用し,位相構造を含むパターン観察に成功した.また,スタンドアロン光源として用いる高次高調波で不足する時間コヒーレンスを改善するため,回折格子の開発を進めた.

研究成果

• [雑誌論文] Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet Mask Inspection and Metrology (2012)
  • 著者名/発表者名: Masato Nakasuji, Akifumi Tokimasa, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Katsumi Midorikawa, Hiroo Kinoshita
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 52(in press)
  • NAID: 210000140707
  • 査読あり
• [雑誌論文] Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet (2012)
  • 著者名/発表者名: M.Nakasuji, A.Tokimasak, T.Harada, Y.Nagata, T.Watanabe, K.Midorikawa, H.Kinoshita
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: (Accepted)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Development of standalone coherent EUV scatterometry microscope with high-harmonic-generation EUV source (2012)
  • 著者名/発表者名: T.Harada, M.Nakasuji, Y.Nagata, T.Watanabe, H.Kinoshita
  • 雑誌名: Proc.SPIE 巻: (Accepted)
• [雑誌論文] Imaging of EUV-mask patterns using coherent EUV scatterometry microscope based on coherent diffraction imaging (2011)
  • 著者名/発表者名: Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Teruhiko, Kimura, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Yutaka Nagata
  • 雑誌名: J. Vac. Sci. Technol. B 巻: 29 号: 6
  • DOI: 10.1116/1.3657525
  • 査読あり
• [雑誌論文] Critical Dimension Measurement of an Extreme-Ultraviolet Mask Utilizing Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope at NewSUBARU (2011)
  • 著者名/発表者名: Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Masaki Tada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 50 号: 6S ページ: 06GB03-06GB03
  • DOI: 10.1143/jjap.50.06gb03
  • NAID: 210000070654
  • 査読あり
• [雑誌論文] The coherent EUV scatterometry microscope for actinic mask inspection and metrology (2011)
  • 著者名/発表者名: Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Teruhiko Kimura, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita
  • 雑誌名: Proc.SPIE 巻: 8081 ページ: 80810K-80810K
  • DOI: 10.1117/12.896576
• [学会発表] Development of Standalone Coherent EUV Scatterometry Microscope with High-Harmonic-Generation EUV Source (2012)
  • 著者名/発表者名: Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita
  • 学会等名: Photo Mask Japan 2012
  • 発表場所: (Yokohama, Japan)(招待講演)
  • 年月日: 2012-04-19
• [学会発表] EUVマスク検査のための高次高調波コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発 (2012)
  • 著者名/発表者名: 中筋正人, 時政明史, 原田哲男, 永田豊, 渡邊健夫, 緑川克美, 木下博雄
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-18
• [学会発表] EUVマスク検査のための高次高調波コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発 (2012)
  • 著者名/発表者名: 中筋正人, 原田哲男, 永田豊, 時政明史, 渡邊健夫, 緑川克美, 木下博雄
  • 学会等名: 第25回放射光学会年会放射光科学合同シンポジウム
  • 発表場所: 鳥栖市(佐賀県)
  • 年月日: 2012-01-09
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク検査 (2011)
  • 著者名/発表者名: 原田哲男, 中筋正人, 渡邊健夫, 永田豊, 木下博雄
  • 学会等名: 第11回X線結像光学シンポジウム
  • 発表場所: (東北大学)(招待講演)
  • 年月日: 2011-11-04
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク検査 (2011)
  • 著者名/発表者名: 原田哲男, 中筋正人, 渡邊健夫, 永田豊, 木下博雄
  • 学会等名: 第11回X線結像光学シンポジウム
  • 発表場所: 東北大学(宮城県)(招待講演)
  • 年月日: 2011-11-04
• [学会発表] Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet (2011)
  • 著者名/発表者名: M.Nakasuji, A.Tokimasak, T.Harada, Y.Nagata, T.Watanabe, K.Midorikawa, H.Kinoshita
  • 学会等名: MNC2011
  • 発表場所: Kyoto (Japan)
  • 年月日: 2011-10-26
• [学会発表] Imaging of EUV-Mask Patterns using the Coherent Scatterometry Microscope based on a Coherent Diffraction Imaging (2011)
  • 著者名/発表者名: T.Harada, M.Nakasuji, T.Kimura, T.Watanabe, H.Kinoshita, Y.Nagata
  • 学会等名: 55^<th> EIPBN
  • 発表場所: Las Vegas (USA)
  • 年月日: 2011-05-31
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク上のプログラム欠陥観察結果 (2011)
  • 著者名/発表者名: 中筋正人, 木村瑛彦, 多田将樹, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: (講演予稿集のみ)
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるCD評価 (2011)
  • 著者名/発表者名: 中筋正人, 多田将樹, 原田哲男, 渡邊健夫,木下博雄
  • 学会等名: 第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • 発表場所: つくば国際会議場
  • 年月日: 2011-01-10
• [学会発表] タイコグラフィーにおける像再生条件の最適化 (2011)
  • 著者名/発表者名: 木村瑛彦, 中筋正人, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
  • 学会等名: 第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • 発表場所: つくば国際会議場
  • 年月日: 2011-01-10
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるタイコグラフィーでのEUVマスクパタン増再生 (2011)
  • 著者名/発表者名: 原田哲男, 中筋正人, 木村瑛彦, 渡邊健夫, 木下博雄
  • 学会等名: 第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • 発表場所: つくば国際会議場
  • 年月日: 2011-01-09
• [学会発表] Critical Dimension Evaluation of an EUV Mask utilizing the Coherent EUV Scatterometry Microscope (2010)
  • 著者名/発表者名: Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Masaki Tada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita
  • 学会等名: MNC2010
  • 発表場所: 小倉
  • 年月日: 2010-11-10
• [学会発表] X線回折顕微法によるEUVマスク像再生アルゴリズムの検討 (2010)
  • 著者名/発表者名: 木村瑛彦, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
  • 学会等名: 2010年度精密工学会 秋季大会学術講演会
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2010-09-27
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるCD評価 (2010)
  • 著者名/発表者名: 原田哲男, 中筋正人, 多田将樹, 渡邊健夫, 木下博雄
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク上のプログラム欠陥観察結果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 中筋正人, 多田将樹, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学
  • 年月日: 2010-09-14