シリコン上への高品質ハーフメタルフルホイスラー合金形成技術とスピン注入技術の創出

• 研究課題/領域番号: 22760226
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 電子・電気材料工学
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 周藤 悠介 東京工業大学, 像情報工学研究所, 特任助教 (80523670)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2011
• 研究課題ステータス: 完了 (2011年度)
• 配分額: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円); 2011年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円); 2010年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
• キーワード: 作成・評価技術 / スピントロニクス材料 / スピントロニクス / エピタキシャル / 先端機能デバイス / 磁性 / MBE,エピタキシャル

研究概要

シリコンCMOSテクノロジーの微細化に頼らない新たな機能向上方法として,"シリコン・スピントロニクス"が有望である.この技術の創出のためには,シリコンチャネル中への高効率スピン注入/検出/操作手法の確立が不可欠である。そこで本研究課題では,高効率スピン注入源・検出器となる高品質ハーフメタル・フルホイスラー合金のシリコン上への形成技術を創出し,さらにシリコンチャネル中でのスピン挙動の観察に適したデバイス設計を行った。

研究成果

• [雑誌論文] Epitaxial germanidation of full-Heusler Co_2FeGe alloy thin films formed by rapid thermal annealing (2011)
  • 著者名/発表者名: Y. Takamura, T. Sakurai, R. Nakane, Y. Shuto, and S. Sugahara
  • 雑誌名: Journal of Applied Physics 巻: 109
• [雑誌論文] Epitaxial germanidation of full-Heusler Co_2FeGe alloy thin films formed by rapid thermal annealing (2011)
  • 著者名/発表者名: Y.Takamura, T.Sakurai, R.Nakane, Y.Shuto, S.Sugahara
  • 雑誌名: Journal of Applied Physics 巻: 109 号: 7
  • DOI: 10.1063/1.3562042
  • 査読あり
• [学会発表] Numerical simulation analysis of nonlocal multi-terminal devices for spincurrent detection in semiconductors (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Shuto, Y.Takamura, S.Sugahara
  • 学会等名: 55th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials (MMM2010)
  • 発表場所: Atlanta, GA, USA
  • 年月日: 2010-11-16
• [学会発表] Comparative study of full-Heusler Co_2FeSi and Co_2FeGe alloy thin films formed by rapid thermal annealing (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Takamura, T.Sakurai, R.Nakane, Y.Shuto, S.Sugahara
  • 学会等名: 55th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials (MMM2010)
  • 発表場所: Atlanta, GA, USA
  • 年月日: 2010-11-16
• [学会発表] 非局所配置マルチターミナルデバイスの数値解析シミュレーション (2010)
  • 著者名/発表者名: 周藤悠介, 高村陽太, 菅原聡
  • 学会等名: 2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎県長崎市
  • 年月日: 2010-09-16
• [学会発表] RTAによるフルホイスラー合金Co_2FeGe薄膜のエピタキシャル形成 (2010)
  • 著者名/発表者名: 櫻井卓也, 高村陽太, 中根了昌, 周藤悠介, 菅原聡
  • 学会等名: 2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎県長崎市
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] Numerical simulation analysis of nonlocal multi-terminal devices for spin current detection in semiconductors (2010)
  • 著者名/発表者名: Y. Shuto, Y. Takamura, and S. Sugahara
  • 学会等名: 55th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials(MMM2010)
  • 発表場所: Atlanta, GA, USA
• [学会発表] Comparative study of full-Heusler Co_2FeSi and Co_2FeGe alloy thin films formed by rapid thermal annealing (2010)
  • 著者名/発表者名: Y. Takamura, T. Sakurai, R. Nakane, Y. Shuto, and S. Sugahara
  • 学会等名: 55th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials(MMM2010)
  • 発表場所: Atlanta, USA
• [学会発表] 非局所配置マルチターミナルデバイスの数値解析シミュレーション (2010)
  • 著者名/発表者名: 周藤悠介,高村陽太,菅原聡
  • 学会等名: 2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎市,長崎
• [学会発表] RTAによるフルホイスラー合金Co_2FeGe薄膜のエピタキシャル形成 (2010)
  • 著者名/発表者名: 櫻井卓也,高村陽太,中根了昌,周藤悠介,菅原聡
  • 学会等名: 2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎市,長崎