研究概要 |
高電流・高安定な電界放出型のイオン液体イオン源を開発し, ビーム特性を評価した. シリコン及びガラス基板表面へのイオン液体イオンビーム照射を行ない, 照射効果についても検討した. 開発したイオン源は, カチオン単体及びカチオンを主体としたクラスターで構成された正イオンビームと, アニオン単体及びアニオンを主体としたクラスターで構成された負イオンビームを生成出来ることがわかった. イオン液体BMIM-PF6イオンビームを照射したガラス基板は, 表面粗さを0.1 nmに低減されることを明らかにしており, 固体表面処理への応用が期待できる.
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