研究課題/領域番号 |
22760583
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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研究機関 | 広島大学 |
研究代表者 |
金指 正言 広島大学, 大学院・工学研究院, 助教 (10467764)
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研究期間 (年度) |
2010 – 2011
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研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2011年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2010年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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キーワード | ゾルゲル法 / シリカ / パラジウム / 水素分離膜 / 分子ふるい |
研究概要 |
ゾルゲル法により,高温において高水素透過率と耐水蒸気性を有するPd-silica mixed-matrix膜を開発した.分離活性層であるPd-silica層は非常に薄膜(膜厚: 100-200 nm)であり,アモルファスシリカマトリックス内に数nm程度のパラジウムが高分散していることが明らかになった.水素透過率の向上は,アモルファスシリカマトリックス内におけるパラジウム連続層の形成によるものと考えられる.
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