| 研究課題/領域番号 |
22760655
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
リサイクル工学
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| 研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
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研究代表者 |
小林 徹 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 任期付研究員 (40552302)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
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| キーワード | 素材の高純度化 / ランタノイド / 相互分離 / イオン認識 / エナンチオマー / 分子鋳型 |
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| 研究概要 |
擬似鏡像錯体形成と分子鋳型を用いた新しいランタノイド分離法を開発した。本研究で用いた配位子PTAはランタノイド系列内の特定元素を境界に擬似鏡像体を形成する。これら擬似鏡像体を分子鋳型を用いて分離することで、ランタノイドを高選択的に分離することに成功した。また、PTAの化学修飾によりイオンサイズ認識特性を制御できることを見出し、サイズ認識特性が異なる2種のPTAを用いることで、特定ランタノイドを選択的に分離できることが示された。
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