| 研究課題/領域番号 |
22791827
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
保存治療系歯学
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| 研究機関 | 東京医科歯科大学 |
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研究代表者 |
井上 剛 東京医科歯科大学, 医歯(薬)学総合研究科, 助教 (40431928)
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| 研究期間 (年度) |
2010-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2013年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2012年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
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| キーワード | アシッドベースレジスタントゾーン / フッ素 / 再石灰化 / う蝕象牙質内層 / 歯質強化 / 樹脂含浸層 / 酸塩基抵抗層 / 人工齲蝕 / 酸塩基低抗層 / セルフアドヒーシブセメント / アシッドベース / セルフエッチング / 接着界面 |
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| 研究概要 |
これまで確認されていたアシッドベースレジスタントゾーン（以下ABRZ)はセルフエッチングプライマーシステムを用いた場合に樹脂含浸層直下に幅１μm程度で観察されていたが、接着操作前に再石灰化効果のあるフッ素含有の知覚過敏抑制剤等を塗布することにより、さらに厚く明瞭なABRZが確認できるようになった。また、う蝕象牙質内層に対する観察として、健全歯質に比べて表層の脱灰が進行していることから、見かけ上の厚みは増えるが接着強さなどの観点から、脆弱であることが予想されていた。しかしながら同様の処置を行うことにより、さらに明瞭なABRZが観察され、フッ素だけでなく他のイオン徐放の効果も確認できた。
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