研究課題/領域番号 |
22H02127
|
研究種目 |
基盤研究(B)
|
配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分35010:高分子化学関連
|
研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
石曽根 隆 東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (60212883)
|
研究分担者 |
後関 頼太 工学院大学, 先進工学部, 准教授 (20592215)
|
研究期間 (年度) |
2022-04-01 – 2025-03-31
|
研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
|
配分額 *注記 |
17,550千円 (直接経費: 13,500千円、間接経費: 4,050千円)
2023年度: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2022年度: 8,450千円 (直接経費: 6,500千円、間接経費: 1,950千円)
|
キーワード | 高分子合成 / 定序性高分子 / リビングアニオン付加反応 / 非重合性ビニル化合物 / ビニル化合物 |
研究開始時の研究の概要 |
酵素やDNAなどの天然高分子とは異なり、合成高分子においてモノマーの配列順序(シーケンス)を制御することは未解決の重要課題として残されている。本研究では、単独重合性を示さない非重合性ビニル化合物を用いて、ワンポットでの連続的なリビングアニオン付加反応を利用して、シーケンスが制御された一次構造の明確な新規定序性高分子の精密合成を行うことを目的とする。
|