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全固体イオン伝導体酸化還元素子による強相関酸化物膜の抵抗スイッチング素子の開発

研究課題

研究課題/領域番号 22K04933
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
研究機関東京理科大学

研究代表者

樋口 透  東京理科大学, 先進工学部物理工学科, 准教授 (80328559)

研究期間 (年度) 2022-04-01 – 2025-03-31
研究課題ステータス 交付 (2023年度)
配分額 *注記
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2024年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2023年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2022年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワード全固体リチウム酸化還元素子 / 二酸化バナジウム薄膜 / 抵抗スイッチング / 全固体酸化還元素子 / リチウムイオン伝導体 / プロトン伝導体 / イオンの挿入・脱離 / 二酸化バナジウム / イオンの挿入脱離
研究開始時の研究の概要

本課題は、VO2膜上積層させた固体電解質膜から成る全固体酸化還元トランジスタを作製し、イオンの挿入・脱離によりVO2の抵抗スイッチングを可能にする新規の素子開発である。V-metalと酸素ラジカルを用いたスパッタ法により、Al2O3基板上に、価数制御したb軸のVO2膜を作製する。固体電解質には、酸化物プロトン伝導体とリチウムイオン伝導体を用い、構造・イオン伝導性を評価しつつ、VO2膜上にスパッタ成膜する。ゲート電圧をスイープさせた際のドレイン・ゲート電流および電圧を印加させた際の電気抵抗の温度依存性を評価する。条件最適化を行うことで、1V以下の低電圧で4桁の抵抗スイッチング素子を実現する。

研究実績の概要

現在使用されているパソコンや携帯電話の半導体メモリー素子は、微細化の限界を迎えており、将来的に、これまでは異なる原理で動作する高機能化・省電力化・小型化・大容量化を兼ね備えた新しいメモリー素子の開発が急務とされている。本研究の目的は、強相関酸化物VO2膜上積層させたリチウムイオン固体電解質膜から成る全固体酸化還元素子を作製し、イオンの挿入・脱離によりVO2の電気抵抗やキャリアー密度を制御することで、可逆的な抵抗スイッチングを実現するすることである。
2023年前期は、種々の条件下で作成したVO2-LiCoO2多層膜について、X線回折・電気抵抗やHall係数の温度依存性を評価し、LiやOイオンがVO2膜の電気特性及ぼす影響を検証した。この多層膜において、リチウムイオン伝導層のLiイオンがVO2層に拡散し、LixVO2膜としてふるまっていることを、電気特性と光電子スペクトルの形状から明らかにした。
2023年後期は、Al2O3基板上にVO2/Li-Sr-Zr-O系およびLiCoO2の各膜を積層させてトランジスタ化し、抵抗スイッチング現象の再現性について、慎重に評価と検討を行った。ゲート電圧印加により、単結晶に匹敵する約4桁の抵抗変更変化を示した。この結果は、全固体酸化還元素子において、電圧印加に伴うLiイオンの挿入が可能であることを示唆しており、前期までの予測した基礎的な知見とほぼ一致する挙動を確認できた。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

従来、VO2薄膜の再現性を得ることが難しいとされたが、2022年度のスパッタ装置の高性能化により、安定的に金属―絶縁体転移を有する薄膜の作製が可能になった。このことにより、リチウムイオン伝導体膜の積層化も容易になり、再現性のある素子を作製することができた。ただ単にデバイスを作製して評価するのではなく、結晶構造・キャリアー密度・電子構造などの基礎的な知見を活かした素子であり、素子の動作についても、ほぼ予測通りの挙動を確認できている。2024年度で、メモリー素子として評価を行う上で、十分な準備ができており、現状、研究は順調に進展している。

今後の研究の推進方策

現状、VO2薄膜およぼリチウムイオン伝導体膜の作製とデバイス化はほぼ確立できている が、スパッタ装置内の残留ガスや不純物の混入を防ぐためには、装置の定期的な保守を欠かさずやっていくことが重要である。また、2024年度で、メモリー素子としての性能評価を行っていくが、絶縁破壊を起こさないように印加電圧を最適化し、高集積化のためにより微細な素子構造を進めていくことで、実デバイスとしての比較・検討ができるのではないかと考えている。

報告書

(2件)
  • 2023 実施状況報告書
  • 2022 実施状況報告書
  • 研究成果

    (22件)

すべて 2024 2023 2022 その他

すべて 雑誌論文 (9件) (うち査読あり 9件、 オープンアクセス 6件) 学会発表 (10件) (うち国際学会 7件、 招待講演 4件) 備考 (3件)

  • [雑誌論文] Few- and single-molecule reservoir computing experimentally demonstrated with surface-enhanced Raman scattering and ion gating2024

    • 著者名/発表者名
      Nishioka Daiki、Shingaya Yoshitaka、Tsuchiya Takashi、Higuchi Tohru、Terabe Kazuya
    • 雑誌名

      Science Advances

      巻: 10 号: 9 ページ: 1-13

    • DOI

      10.1126/sciadv.adk6438

    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Surface oxide ion conduction of BaCe<sub>0.5</sub>Pr<sub>0.3</sub>Y<sub>0.2</sub>O<sub>3-δ </sub> thin film with complex mixed valence states2024

    • 著者名/発表者名
      Notake Go、Kadowaki Takemasa、Tani Minami、Higuchi Tohru
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 63 号: 3 ページ: 03SP21-03SP21

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ad1fae

    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] High surface proton conduction of a-axis oriented CeO<sub>2-δ </sub> thin film on (200) YSZ substrate2024

    • 著者名/発表者名
      Tani Minami、Notake Go、Kadowaki Takemasa、Yamada Mariko、Higuchi Tohru
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 63 号: 2 ページ: 02SP88-02SP88

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ad1e9a

    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Room temperature fabrication of highly proton conductive amorphous zirconia-based thin films achieved through precise nanostructure control2023

    • 著者名/発表者名
      Takayanagi Makoto、Tsuchiya Takashi、Nishioka Daiki、Higuchi Tohru、Terabe Kazuya
    • 雑誌名

      Journal of Materials Chemistry C

      巻: 11 号: 39 ページ: 13311-13323

    • DOI

      10.1039/d3tc02084c

    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Redox-based ion-gating reservoir consisting of (104) oriented LiCoO<sub>2</sub> film, assisted by physical masking2023

    • 著者名/発表者名
      Shibata Kaoru、Nishioka Daiki、Namiki Wataru、Tsuchiya Takashi、Higuchi Tohru、Terabe Kazuya
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 13 号: 1 ページ: 1-10

    • DOI

      10.1038/s41598-023-48135-z

    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Accelerated/decelerated dynamics of the electric double layer at hydrogen-terminated diamond/Li+ solid electrolyte interface2023

    • 著者名/発表者名
      Takayanagi Makoto、Tsuchiya Takashi、Nishioka Daiki、Imura Masataka、Koide Yasuo、Higuchi Tohru、Terabe Kazuya
    • 雑誌名

      Materials Today Physics

      巻: 31 ページ: 101006-101006

    • DOI

      10.1016/j.mtphys.2023.101006

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] In situ manipulation of perpendicular magnetic anisotropy in half-metallic NiCo2O4 thin film by proton insertion2022

    • 著者名/発表者名
      Wada Tomoki、Namiki Wataru、TSUCHIYA Takashi、KAN Daisuke、SHIMAKAWA Yuichi、HIGUCHI Tohru、TERABE Kazuya
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 未定 号: SM ページ: 16720-16725

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac594f

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Edge-of-chaos learning achieved by ion-electron coupled dynamics in an ion-gating reservoir2022

    • 著者名/発表者名
      Nishioka Daiki、Tsuchiya Takashi、Namiki Wataru、Takayanagi Makoto、Imura Masataka、Koide Yasuo、Higuchi Tohru、Terabe Kazuya
    • 雑誌名

      Science Advances

      巻: 8 号: 50

    • DOI

      10.1126/sciadv.ade1156

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Surface proton conduction below 100 °C of Ce0.80Sm0.20O2-δ thin film with oxygen vacancies2022

    • 著者名/発表者名
      G. Notake, D. Nishioka, H. Murasawa, M. Takayanagi, Y. Fukushima, H. Ito, T. Takada, D. Shiga, M. Kitamura, H. Kumigashira, and T. Higuchi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 61 号: SD ページ: SD1017-SD1017

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac4feb

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] 固体イオン電解質薄膜の表面・界面の物理計測および固/固界面の材料設計2024

    • 著者名/発表者名
      樋口透
    • 学会等名
      電気化学会第91回大会
    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Innovative Anode Nanomaterial with Electron-Proton Mixed Conduction for Proton Conducting Fuel Cell2023

    • 著者名/発表者名
      Tohru Higuchi
    • 学会等名
      International Conference on Nano Research and Development (ICNRD-2023)
    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] A Redox-Based Ion-Gating Reservoir, Utilizing (104) Oriented LiCoO2 Film and Physical Masking2023

    • 著者名/発表者名
      K. Shibata, D. Nishioka, W. Namiki, T. Wada, T. Tsuchiya, T. Higuchi and K. Terabe
    • 学会等名
      International Conference on Memristive Materials, Devices & Systems(MEMRISYS2023)
    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Li拡散現象を利用したVO2-δ薄膜の金属-絶縁体転移の抵抗制御2023

    • 著者名/発表者名
      金子理久, 谷古宇海斗, 樋口透
    • 学会等名
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
  • [学会発表] High Oxygen and Proton Conductions at Medium Temperature Region of BaCe0.8-xPrxY0.2O3-d Thin Film with Large Amount of Oxygen Vacancies2023

    • 著者名/発表者名
      Tohru Higuchi
    • 学会等名
      International Conference on Materials Science, Engineering and Technology
    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Resistivity Switching Control of VO2 thin films with Nb-TiO2 and LiCoO2 buffer layers2022

    • 著者名/発表者名
      Kaito Yako, Shohei Nishi, Hiroki Ito, Mitsuki Taniguchi, Kisara Tomiyoshi, Tomoasa Takada, Daisuke Shiga, Hiroshi Kumigashira, Tohru Higuchi
    • 学会等名
      35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2022)
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Surface Proton Conduction of Ce1-xSmxO2-d Electrolyte Thin Films in Solid Oxide Fuel Cells Operating at Room Temperature2022

    • 著者名/発表者名
      Go Notake, Daiki Nishioka, Minami Tani, Ukyo Kobayashi, Hideaki Murasawa, Daisuke Shiga, Hiroshi Kumigashira, and Tohru Higuchi
    • 学会等名
      17th Asian Conference on Solid State Ionics (ACSSI-2020)
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Carrier Control of Functional Ionic Conductor by Nanoionics-based All-Solid-State Transistor2022

    • 著者名/発表者名
      Tohru Higuchi, Makoto Takayanagi & Takashi Tsuchiya
    • 学会等名
      Materials Science, Engineering & Technology International Conference
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] All-Solid-State Redox Transistor for In Situ Manipulation of Perpendicular Magnetic Anisotropy in Half-Metallic NiCo2O4 Thin Film2022

    • 著者名/発表者名
      Tomoki Wada, Wataru Namiki, Takashi Tsuchiya, Daisuke Kan, Yuichi Shimakawa, Tohru Higuchi and Kazuya Terabe
    • 学会等名
      23rd International Conference on Solid State Ionics (SSI-23)
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 半導体-絶縁体転移を示すVO2/Nb-TiO2多層膜の電子構造とキャリアー密度2022

    • 著者名/発表者名
      谷古宇 海斗、西 翔平、伊藤 宏樹、谷口 充樹、冨吉 希彩良、高田 文朝、志賀 大亮、組頭 広志、樋口 透
    • 学会等名
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
  • [備考] 東京理科大学先進工学部物理工学科 樋口研究室ホームページ

    • URL

      https://www.rs.kagu.tus.ac.jp/higuchi/index.html

    • 関連する報告書
      2023 実施状況報告書
  • [備考] 東京理科大学理学部応用物理学科樋口研究室ホームページ

    • URL

      https://www.rs.kagu.tus.ac.jp/higuchi/index.html

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
  • [備考] 研究者情報データベースRIDAI

    • URL

      https://www.tus.ac.jp/ridai/doc/ji/RIJIA01Detail.php?act=nam&kin=ken&diu=3402

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2022-04-19   更新日: 2024-12-25  

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