放射光を用いたヒト毛髪中ヒ素の化学形態別マッピング分析法の開発とその法科学応用

• 研究課題/領域番号: 22K05164
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分34020:分析化学関連
• 研究機関: 国立研究開発法人理化学研究所
• 研究代表者: 岩井 貴弘 国立研究開発法人理化学研究所, 放射光科学研究センター, 研究員 (90756694)
• 研究期間 (年度): 2022-04-01 – 2025-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2022年度)
• 配分額: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円); 2024年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2023年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2022年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
• キーワード: 法科学 / 毛髪 / 放射光 / ヒ素

研究開始時の研究の概要

世界最高性能の大型放射光施設であるSPring-8におけるX線吸収微細構造(XAFS)分析を活用して、毛髪中のヒ素を試料非破壊かつ化学的な前処理なしで化学形態別にマッピングを行う技術の開発を行う。そして、高速液体クロマトグラフィー-誘導結合プラズマ質量分析法(HPLC-ICP-MS)による分析と合わせて、ヒ素がヒト毛髪中のサブマイクロメートルオーダーの領域にどのような化学形態で、どのように空間的に分布するのかを世界で初めて明らかにし、毛髪中における外因性・内因性ヒ素を判別するための手法を確立する。