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ファンデルワールス2次元層状物質を用いたユニバーサル結晶成長基板の提案と実証

研究課題

研究課題/領域番号 22K18972
研究種目

挑戦的研究(萌芽)

配分区分基金
審査区分 中区分29:応用物理物性およびその関連分野
研究機関大阪大学

研究代表者

田中 秀和  大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (80294130)

研究期間 (年度) 2022-06-30 – 2024-03-31
研究課題ステータス 完了 (2023年度)
配分額 *注記
6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円)
2023年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2022年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
キーワード遷移金属酸化物 / 2次元層状物質 / 六方晶窒化ホウ素 / 金属-絶縁体相転移 / 酸化バナジウム / 薄膜結晶成長 / パルスレーザ蒸着法
研究開始時の研究の概要

遷移金属酸化物は金属-絶縁体相転移、強磁性、超伝導性など多彩な物性を示し、種々の新奇デバイス応用が期待されている。その表面に非常に弱いファンデルワールス結合のみ存在する2次元層状物質は、結晶構造・格子定数の違いによらず薄膜結晶成長が可能となる【ユニバーサル基板】となりうることを実証し、フレキシブルデバイス応用の可能性を示す。具体的には、六方晶窒化ホウ素上へのパルスレーザ蒸着法による遷移金属薄膜結晶の成長と物性評価、透過型電子顕微鏡による断面界面格子像の観察、第一原理計算による界面電子状態のシミュレーション、フレキシブルデバイス材料としてのデモンストレーションを行う。

研究成果の概要

遷移金属属酸化物(VO2、Fe3O4、NdNiO3)薄膜を、2次元層状物質の1つである、六方晶窒化ホウ素(Hexagonal Born Nitride: hBN) 上へ結晶成長させることに成功し、それらが良好な金属属-絶縁体相転移を示すことを見出いだした。これにより、その表面に非常に弱いファンデルワールス結合のみ存在する2 次元層状物質は、結晶構造・格子定数の違いによらず様々な物質の薄膜結晶成長が可能となる【ユニバーサル基板】となりうることを示した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究では、hBNフレーク上で3種類の異なる酸化物材料の薄膜成長とスイッチング特性評価からhBNのユニバーサル基板としての検討を行い、さらに転写によるフレキシブル素子展開の可能性を示した。遷移金属酸化物は金属-絶縁体相転移、強磁性、強誘電性、超伝導性など多彩な物性を示し、種々のデバイス応用が期待されている。2 次元層状物質の表面は、非常に束縛が弱く、異種物質の結晶構造・格子定数の違いによらず良質な結晶成長が可能となる新規合成場となり、異種物質の一層の高機能物性を引き出せると期待され、また2次元層状物質の特性より、その複合材料も新規なフレキシブルエレクトロニクス材料としての展開が期待される。

報告書

(3件)
  • 2023 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2022 実施状況報告書
  • 研究成果

    (10件)

すべて 2023 2022 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (7件) (うち国際学会 5件、 招待講演 4件) 図書 (1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Step electrical switching in VO<sub>2</sub> on hexagonal boron nitride using confined individual metallic domains2023

    • 著者名/発表者名
      Genchi Shingo、Nakaharai Shu、Iwasaki Takuya、Watanabe Kenji、Taniguchi Takashi、Wakayama Yutaka、Hattori Azusa N.、Tanaka Hidekazu
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 62 号: SG ページ: SG1008-SG1008

    • DOI

      10.35848/1347-4065/acb65b

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Heterostructuring functional oxides and two-dimensional material toward transferable electronics2023

    • 著者名/発表者名
      Hidekazu Tanaka
    • 学会等名
      the 13th International Conference on Advanced Materials and Devices (ICAMD2023)(
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Determining the in-plane crystal arrangement of VO2 film on CVD-grown hBN sheet using transmission electron microscopy2023

    • 著者名/発表者名
      Boyuan Yu, Shingo Genchi, Haobo Li Azusa N. Hattori1, Satoru Fukamachi, Hiroki Ago, Hidekazu Tanaka
    • 学会等名
      2023年 第85回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] 単結晶hBNフレーク上に作製したVO2の電流誘起抵抗スイッチングにおけるフレーク境界の効果2023

    • 著者名/発表者名
      冨田 雄揮、中払 周、若山 裕、渡邉 賢治、谷口 尚、李 好博、服部 梓、田中 秀和
    • 学会等名
      2023年 第85回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] Nano/micro-scale phase change electronics using functional oxides/2D material heterostructures2022

    • 著者名/発表者名
      Hidekazu Tanaka
    • 学会等名
      35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2022,)
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Step-like electric current switching in VO2/hBN device using individual metallic domains2022

    • 著者名/発表者名
      Shingo Genchi, Hidekazu Tanaka
    • 学会等名
      35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2022,)
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] New memory technologies2022

    • 著者名/発表者名
      Hidekazu Tanaka
    • 学会等名
      11th imec Handai International Symposium
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Functional oxide thin films grown on two-dimensional material toward transferable electronics2022

    • 著者名/発表者名
      Hidekazu Tanaka
    • 学会等名
      Europeam Materials Research Society
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [図書] 生産と技術2022

    • 著者名/発表者名
      玄地真悟、田中秀和
    • 総ページ数
      4
    • 出版者
      大阪大学出版会
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
  • [備考]

    • URL

      https://www.sanken.osaka-u.ac.jp/labs/bis/

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2022-07-05   更新日: 2025-01-30  

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