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極性界面の誘起による窒化物強誘電体の強固な抗電界の低減

研究課題

研究課題/領域番号 22K20427
研究種目

研究活動スタート支援

配分区分基金
審査区分 0302:電気電子工学およびその関連分野
研究機関東京工業大学

研究代表者

岡本 一輝  東京工業大学, 物質理工学院, 助教 (60965937)

研究期間 (年度) 2022-08-31 – 2024-03-31
研究課題ステータス 完了 (2023年度)
配分額 *注記
2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2023年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2022年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
キーワード強誘電体 / 窒化物 / 分極反転 / 積層膜 / 薄膜 / 積層構造
研究開始時の研究の概要

本研究の目的は極性界面に誘起・促進された動力学的な分極反転により窒化物強誘電体の「強固な抗電界を低減」を実現することである。すでに圧電材料として社会実装されているAlN基強誘電体の低電圧駆動可能な次世代強誘電体メモリ材料としての可能性を開拓及び発展を目指す。AlN基窒化物強誘電体を用いて積層構造を作製し、人工的な極性界面の制御と通して分極反転の動力学的過程・反転挙動の理解を深める。

研究成果の概要

窒化物強誘電体における大きな抗電界を低下を実現するために,エピタキシャル成長した単層膜と積層膜の薄膜を作製し、その分極反転について評価を行った。積層膜においても添加元素Scの平均的な濃度が分極反転挙動を支配していることが明らかになった。窒化物強誘電体の分極反転挙動に関する重要な知見を得ることができた。

研究成果の学術的意義や社会的意義

現在、AlN基窒化物強誘電体はすでに圧電材料として社会実装されており、強誘電体メモリに用いる候補材料として特に注目されているウルツ構造型窒化物強誘電体の一つである。AlN基窒化物強誘電体は高い残留分極値を示す一方で高い強固な抗電界Ecを示し、これが課題となっている。本研究では、単層膜と積層膜の分極反転挙動の調査を行い、それらの設計指針として重要な分極反転過程の理解を深める知見を得ることができた。

報告書

(3件)
  • 2023 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2022 実施状況報告書
  • 研究成果

    (12件)

すべて 2024 2023 2022

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (10件) (うち国際学会 3件)

  • [雑誌論文] Scalable ferroelectricity of 20?nm-thick (Al0.8Sc0.2)N thin films sandwiched between TiN electrodes2023

    • 著者名/発表者名
      Ota Reika、Yasuoka Shinnosuke、Mizutani Ryoichi、Shiraishi Takahisa、Okamoto Kazuki、Kakushima Kuniyuki、Koganezawa Tomoyuki、Sakata Osami、Funakubo Hiroshi
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 134 号: 21 ページ: 214103-214103

    • DOI

      10.1063/5.0166288

    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Invariant polarization switching kinetics in an (Al0.8Sc0.2)N film with frequency and temperature2023

    • 著者名/発表者名
      Yasuoka Shinnosuke、Mizutani Ryoichi、Ota Reika、Shiraishi Takahisa、Shimizu Takao、Okamoto Kazuki、Uehara Masato、Yamada Hiroshi、Akiyama Morito、Funakubo Hiroshi
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 123 号: 20 ページ: 202902-202902

    • DOI

      10.1063/5.0171108

    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Effect of gas annealing on the ferroelectric property of (Al0.8Sc0.2)N thin film2024

    • 著者名/発表者名
      Nana Sun,Kazuki Okamoto,Shinnosuke Yasuoka,Naoko Matsui,Toshikazu Irisawa,Koji Tsunekawa,Hiroshi Funakubo
    • 学会等名
      第62回セラミックス基礎科学討論会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] High stability of ferroelectricity against hydrogen gas in (Al,Sc)N thin films2024

    • 著者名/発表者名
      Nana Sun, Kazuki Okamoto, Shinnosuke Yasuoka, Naoko Matsui, Toshikazu Irisawa, Koji Tsunekawa, Soshun Doko and Hiroshi Funakubo
    • 学会等名
      第71回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] Ga添加によるAlNへのSc固溶量の増加とその強誘電性および圧電性への影響2024

    • 著者名/発表者名
      大田怜佳、安岡慎之介、中村美子、岡本一輝、原浩之、正能大起、上岡義弘、召田雅実、舟窪浩
    • 学会等名
      第71回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] 種々の組成の(Al, Sc)N多層膜のスイッチング特性評価2023

    • 著者名/発表者名
      安岡慎之介、岡本一輝、清水荘雄、松井尚子、入澤寿和、恒川孝二、舟窪浩
    • 学会等名
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] Crystal structure and electrical properties of (Al, Ga, Sc)N temary thin films prepared by RF sputtering2023

    • 著者名/発表者名
      Kazuki Okamoto, Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Yoshihiro Ueoka, Yoshiro Kususe, Masami Mesuda, and Hiroshi Funakubo
    • 学会等名
      36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Ferroelectric Property Improvement of (Al1-x-yGaxScy)N Ternary Thin Films2023

    • 著者名/発表者名
      Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Kazuki Okamoto, Yoshihiro Ueoka, Yoshiro Kususe, Masami Mesuda, Hiroshi Funakubo
    • 学会等名
      2023 MRS Fall Meeting & Exhibit
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of Ferroelectric Switching Properties for (Al,Sc)N Films with Various Composition2023

    • 著者名/発表者名
      Shinnosuke Yasuoka, Kazuki Okamoto, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo
    • 学会等名
      2023 MRS Fall Meeting & Exhibit
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] NbN電極上に作製したエピタキシャル(Al,Sc)N膜の電気特性評価2023

    • 著者名/発表者名
      安岡慎之介, 大田怜佳, 岡本一輝, 石濱圭佑, 清水荘雄, 舟窪浩
    • 学会等名
      第70回応用物理学会 春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
  • [学会発表] 水素ガス熱処理が(Al,Sc)N薄膜の強誘電特性へ及ぼす影響2022

    • 著者名/発表者名
      岡本一輝, 安岡慎之介, 大田怜佳, 舟窪浩, 松井尚子, 入澤寿和, 恒川孝二
    • 学会等名
      第83回応用物理学会 秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
  • [学会発表] メモリ応用に向けた(Al,Sc)N 膜の薄膜化の検討2022

    • 著者名/発表者名
      安岡慎之介, 大田怜佳, 岡本一輝, 石濱圭佑, 清水荘雄, 角嶋邦之, 上原雅人, 山田浩志, 秋山守人, 小金澤智之, L. S. Kumara, O. Seo, 坂田修身, 舟窪浩
    • 学会等名
      第83回応用物理学会 秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書

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公開日: 2022-09-01   更新日: 2025-01-30  

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