研究課題/領域番号 |
22K20559
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研究種目 |
研究活動スタート支援
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配分区分 | 基金 |
審査区分 |
0502:無機・錯体化学、分析化学、無機材料化学、エネルギー関連化学およびその関連分野
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研究機関 | 京都大学 |
研究代表者 |
笹原 悠輝 京都大学, 工学研究科, 特定研究員 (30965611)
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研究期間 (年度) |
2022-08-31 – 2024-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2022年度)
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配分額 *注記 |
2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2023年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2022年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | ヒドリド伝導体 / エピタキシャル薄膜 / 水素化ハロゲン化物 / パルスレーザー堆積法 / 超イオン伝導体 |
研究開始時の研究の概要 |
最近、水素のアニオンであるヒドリド (H-)が注目を集めている。H-は、電池系のデバイスのみならず、有機反応や触媒にも応用可能であるため、従来のイオニクスデバイスでは成し得なかった特異なデバイスの実現を期待できる。しかし、現状では室温における伝導率の低さが課題となり、H-の強みを生かし切れていない。そこで本研究では、水素系物質の薄膜合成に特化した装置によるH-伝導体の高品質なエピタキシャル薄膜合成により、室温における高速H-伝導を生み出す。
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