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金属ナノ粒子によるランダムネットワークを用いた新しい機能デバイスの開拓

研究課題

研究課題/領域番号 22KJ0046
補助金の研究課題番号 22J10036 (2022)
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分基金 (2023)
補助金 (2022)
応募区分国内
審査区分 小区分21050:電気電子材料工学関連
研究機関北海道大学

研究代表者

瘧師 貴幸  北海道大学, 情報科学院, 特別研究員(DC2)

研究期間 (年度) 2023-03-08 – 2024-03-31
研究課題ステータス 採択後辞退 (2023年度)
配分額 *注記
1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
2023年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2022年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
キーワード単電子効果 / 自己組織化 / クーロンブロッケード / 金属ナノドットアレイ / クーロン振動 / 単電子トランジスタ / 単電子デバイス / コンダクタンス振動
研究開始時の研究の概要

多数の金属ナノドットを無秩序に配置した複雑系は高機能デバイスへの応用が期待されているものの、その特性の評価・理解は全く進んでいない。本研究では、金属ナノドットのランダムネットワークを用いた新規の高機能デバイスの実現を目指す。

研究実績の概要

本研究では、ランダムに分布した金属ナノドットアレイにおける単電子特性を評価し、デバイスの可能性を見極めることを目指した。
前年度に、2つの入力ゲートを用いてナノドットアレイの単電子特性を制御できること、およびドットの上下非対称性によりゲート容量比が不均一化することを明らかにした。令和4年度には、この研究成果をScientific Reportsの掲載論文として発表するとともに、ナノドットアレイの単電子特性の特徴について詳細に調査した。得られた研究成果を、査読付き国際会議(SNW 2022)および応用物理学会において発表するとともに、査読付き学術雑誌論文への投稿を準備している(令和5年度に投稿予定)。
ランダムに分布したナノドットアレイの単電子特性の評価:蒸着量および基板の表面処理によりドットの面密度・ドットサイズ・ドット間距離を変え、単電子特性を評価した。一般的に、蒸着量の増加に伴いドットのサイズが増加し、ドット間距離は減少するためコンダクタンスは指数関数的に増加する。コンダクタンスの低い領域では複数のドットに由来する複雑な特性が得られ、コンダクタンスの増加により主に1個のドットに由来するシンプルな特性が一定頻度で観測され、量子化コンダクタンス付近まで増加すると単電子特性が消失した。基板の表面処理の方法を変えるとドットの面密度とサイズが変化するため蒸着量は異なるものの、同程度のコンダクタンスにおいて上記で述べた傾向が見られた。これらの結果は、ナノドットアレイの単電子特性がコンダクタンス(ドット間距離)に支配されることを示しており、将来的にデバイスとして用いる際に指針となる重要な知見である。

現在までの達成度 (段落)

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

今後の研究の推進方策

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

報告書

(1件)
  • 2022 実績報告書
  • 研究成果

    (3件)

すべて 2022

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (2件) (うち国際学会 1件)

  • [雑誌論文] Double gate operation of metal nanodot array based single electron device2022

    • 著者名/発表者名
      Gyakushi Takayuki、Amano Ikuma、Tsurumaki-Fukuchi Atsushi、Arita Masashi、Takahashi Yasuo
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 12 号: 1

    • DOI

      10.1038/s41598-022-15734-1

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] Coulomb blockade oscillations observed in micrometer-sized single-electron device of metal nanodot array2022

    • 著者名/発表者名
      T. Gyakushi, I. Amano, A. Tsurumaki-Fukuchi, M. Arita, Y. Takahashi
    • 学会等名
      2022 Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW2022)
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 熱酸化・スパッタ成膜SiO2上に形成した金属ナノドットアレイの特性2022

    • 著者名/発表者名
      瘧師 貴幸,天野 郁馬,福地 厚, 有田 正志, 高橋 庸夫
    • 学会等名
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書

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公開日: 2022-04-28   更新日: 2024-03-26  

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