研究課題/領域番号 |
23244082
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
原子・分子・量子エレクトロニクス
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研究機関 | 東京農工大学 |
研究代表者 |
畠山 温 東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70345073)
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研究分担者 |
島田 紘行 東京農工大学, 大学院・工学研究院, 助教 (30542112)
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研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2015-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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配分額 *注記 |
15,340千円 (直接経費: 11,800千円、間接経費: 3,540千円)
2014年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2013年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2012年度: 7,670千円 (直接経費: 5,900千円、間接経費: 1,770千円)
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キーワード | 原子 / 表面 / レーザー分光 / レーザー冷却 / スピン緩和防止コーティング / 光誘起脱離 / 原子分光 / 磁気共鳴 / パラフィンコーティング / 冷却原子 / スピン偏極 / スピン |
研究成果の概要 |
レーザーを用いた精密計測や量子制御で重要なアルカリ気体原子を対象に,原子と表面の関連する現象の研究を行った。テーマは(1)光誘起原子脱離(2)原子スピンの緩和防止コーティング(3)表面における原子の運動誘起共鳴,の3つに大別され,いずれも従来の精密計測実験を改良しさらには革新を起こすことが期待される。この研究助成の元,表面科学的手法を導入して系統的にアルカリ原子気体と固体表面の相互作用の研究を進めることができ,新しい知見と独自の実験ノウハウが得られた。
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