| 研究課題/領域番号 |
23245044
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 早稲田大学 |
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研究代表者 |
黒田 一幸 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (90130872)
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| 連携研究者 |
若林 隆太郎 早稲田大学, 理工学術院, 助手 (30546172)
長田 師門 早稲田大学, 理工学術院, 助手 (70581487)
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
49,400千円 (直接経費: 38,000千円、間接経費: 11,400千円)
2013年度: 14,430千円 (直接経費: 11,100千円、間接経費: 3,330千円)
2012年度: 14,430千円 (直接経費: 11,100千円、間接経費: 3,330千円)
2011年度: 20,540千円 (直接経費: 15,800千円、間接経費: 4,740千円)
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| キーワード | ビルディングユニット / シロキサン化合物 / シリカナノ粒子 / 階層構造 / 無機逆合成 / コロイド / シリカ系化合物 / ビルイディングブロック / 界面設計 |
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| 研究概要 |
本研究課題では、精密なシロキサン形成反応を利用し、シロキサン系ビルディングユニットからコロイド状ナノ構造体を合成することで、シリカ系ナノ構造体の階層構造制御を検討した。段階的シリル化反応による巨大シロキサンオリゴマーの合成、シロキサン含有ブロックコポリマーの自己組織化によるコロイド状ナノ構造体の合成、メソポーラスシリカナノ粒子の構造及び分散性の制御、層状ケイ酸塩を用いた逆合成的なゼオライト骨格構築についての基礎的検討を行い、シリカ系ナノ構造体の各スケールの構造を精密制御する手法を開発した。
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