研究課題
基盤研究(A)
本研究では、“1分子層”InN/GaN構造の高い構造完全性と特徴的な高温自己形成プロセスを高度化・展開し、InN/GaN擬似混晶の構造・物性制御への挑戦および太陽電池への応用について検討を行った。MBEでの構造制御では、(1分子層InN)/(4分子層GaN)まで超薄膜化された短周期超格子がコヒーレント成長され、電子系が連続バンド状態を示したことから、InN/GaN擬似混晶バンドエンジニアリングの可能性が実証された。一方、MOVPEでは擬似混晶プロセスを導入したInGaN太陽電池の接合特性が大幅に改善され、20 MΩ・cm2以上(測定系検知限界)の世界最高水準の接合リーク抵抗が達成された。
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