研究課題/領域番号 |
23246112
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
無機材料・物性
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
山口 周 東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (10182437)
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研究分担者 |
三好 正悟 東京大学, 大学院工学系研究科, 助教 (30398094)
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連携研究者 |
尾山 由紀子 富山高等専門学校, 准教授 (00345373)
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研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2015-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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配分額 *注記 |
50,180千円 (直接経費: 38,600千円、間接経費: 11,580千円)
2013年度: 9,750千円 (直接経費: 7,500千円、間接経費: 2,250千円)
2012年度: 10,270千円 (直接経費: 7,900千円、間接経費: 2,370千円)
2011年度: 30,160千円 (直接経費: 23,200千円、間接経費: 6,960千円)
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キーワード | 表面・界面物性 / プロトン伝導 / 固体酸 / Lewis酸 / 電気二重層 |
研究成果の概要 |
本研究ではナノ粒子から構成される金属酸化物のバルク体および薄膜の表面における水和酸塩基反応に由来する表面プロトニクス材料の開発とメカニズム解明を行った.表面プロトン伝導におけるキャリア生成には終端層に吸着した化学種の関わる酸塩基反応が重要な役割を果たすことを明らかにするとともに,この酸塩基反応が気相化学種による表面修飾により著しく変化することを見出した.また,絶縁性・誘電性酸化物薄膜においても,表面吸着に由来するプロトン伝導性が発現し,直接的および直流分極の結果として間接的に薄膜の伝導性に影響を及ぼすとともにプロトン欠陥がメディエーターとなり酸化還元特性に影響を及ぼすことを示した.
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