研究課題
基盤研究(B)
将来的な高性能グラフェンデバイス製造を目し、電子状態に関する無干渉な基板としての六方晶窒化ホウ素(h-BN)の薄膜成長技術の開発を目的とし、気相成長法により大面積高品質の薄膜成長を目指した。特に高品質膜を得るための単結晶粒界の制御(大きさと配向)を可能とする薄膜成長条件の最適化を図った。窒素源としてアンモニア、ホウ素源としてジボランを用いた化学気相成長(CVD)法により、1300℃を越える高温成長条件において、良質なh-BNホモエピタキシャル膜を得ることができた。
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