| 研究課題/領域番号 |
23350102
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 慶應義塾大学 |
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研究代表者 |
今井 宏明 慶應義塾大学, 理工学部, 教授 (70255595)
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| 研究分担者 |
渡辺 洋人 東京都立産業技術研究センター, 材料技術グループ, 研究員 (00500901)
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| 連携研究者 |
藤巻 康人 東京都立産業技術研究センター, 材料技術グループ, 研究員 (70392305)
林 孝星 東京都立産業技術研究センター, 材料技術グループ, 研究員 (80560151)
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
20,540千円 (直接経費: 15,800千円、間接経費: 4,740千円)
2013年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2012年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2011年度: 13,260千円 (直接経費: 10,200千円、間接経費: 3,060千円)
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| キーワード | 量子ドット / 多孔質体 / 光触媒、 / サーモクロミズム / ナノ粒子 / 光触媒 / 酸化触媒 / サブナノ粒子 |
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| 研究概要 |
本研究では、シングル～サブナノサイズの細孔を有する多孔質シリカを作製し、その細孔内で遷移金属酸化物量子ドットの合成を行うとともに、顕著な量子サイズ効果による特有の性質を追究した。0.6～3.0 nmの細孔は遷移金属酸化物の量子ドットの合成場として効果的に機能すること、および、1 nm以下の酸化物ドットでは量子サイズ効果が顕著に発現し、バンドギャップが大幅に増大することを確認した。酸化タングステンでは、光触媒反応における還元力が向上することが明らかになり、酸化銅や酸化コバルト量子ドットでは顕著なサーモクロミズムが観測され、シングル～サブナノ領域における特異的な機能性の発現が見いだされた。
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