| 研究課題/領域番号 |
23360080
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
流体工学
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
石本 淳 東北大学, 流体科学研究所, 教授 (10282005)
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| 連携研究者 |
松浦 一雄 愛媛大学, 大学院・理工学研究科, 准教授 (20423577)
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円)
2013年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2012年度: 5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2011年度: 10,270千円 (直接経費: 7,900千円、間接経費: 2,370千円)
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| キーワード | 混相流 / 極低温 / 微粒化 / 熱伝達 / ナノ洗浄 / 冷却 / 固体窒素 / 噴霧 / 相変化 |
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| 研究概要 |
半導体ウエハ洗浄プロセスにおける，完全ケミカルフリー・純水フリータイプ・極低温マイクロ・ナノソリッドの超高速ジェット流を用いた，ドライ型アッシングレス洗浄システムを開発した．本研究においては，異分野サステナブル融合型のマイクロ・ナノソリッド噴霧利用型洗浄・はく離システム実用化の基盤となるシステムを構築し，最適な半導体ウエハレジストはく離・洗浄性能，ITO膜はく離性能を得るための諸流動条件・流体制御方法を究明した．さらに，高分解能レーザー粒子計測とスーパーコンピューテーションの融合研究により，最適なはく離・洗浄効率を達成しうるシステム設計を行うための基礎指針を示した．
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