研究課題
基盤研究(B)
本研究では15nm以下のクラスのレジストパターンのLER凝集性の抑制について、原子間力顕微鏡(AFM)を中心に実験的実証を行った。パターン内のLER制御には、パターンを構成する高分子集合体の凝集制御が必要となる。DPAT法によるはパターン剥離実験から、パターン底部の高分子集合体の凝集モードが大きく影響すること確認した。これらは、基板界面への溶液の浸透実験からも確認している。さらに、溶液中のゼータ電位に起因する帯電性も、高分子集合体の凝集性に影響することを示している。以上のように、レジストパターンのLER制御において、高分子集合体のサイズおよび凝集分布の設計への寄与が可能となる。
すべて 2014 2013 2012 2011 2007 その他
すべて 雑誌論文 (19件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (65件) (うち招待講演 1件) 図書 (16件) 備考 (2件) 産業財産権 (2件)
J. Photopolymer Science and Technology
巻: 26(6) ページ: 705-706
130004833540
巻: 26(6) ページ: 713-716
130004833542
巻: 26(6) ページ: 717-720
130004833543
巻: 26(6) ページ: 727-732
130004833545
巻: 26(6) ページ: 739-744
130004833547
巻: 26(6) ページ: 751-756
130004833549
巻: 26(6) ページ: 765-768
130004833551
巻: 25(6) ページ: 719-722
130004833506
巻: 25(6) ページ: 723-727
巻: 25(6) ページ: 729-733
130004833508
J. Adhesion Soc. Japan
巻: 48(1) ページ: 10-16
130004568093
J. Photopolymer Sci. Technol.
巻: 25 ページ: 719-722
巻: 25 ページ: 723-726
巻: 25 ページ: 727-731
巻: 48 ページ: 10-16
巻: 24(5) ページ: 587-593
130004833420
巻: 24(6) ページ: 647-650
130004464934
J.Photopolymer Science and Technology
巻: 24 ページ: 573-598
巻: 24 ページ: 647-650
http://kawai.nagaokaut.ac.jp