| 研究課題/領域番号 |
23360334
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
金属生産工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
佐々木 秀顕 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (10581746)
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| 研究分担者 |
前田 正史 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (70143386)
永井 崇 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (40533633)
大藏 隆彦 東京大学, 生産技術研究所, 特任教授 (00400523)
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円)
2013年度: 9,100千円 (直接経費: 7,000千円、間接経費: 2,100千円)
2012年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2011年度: 5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円)
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| キーワード | シリコン / ホウ素 / 電気分解 / シリサイド / 高温質量分析 / 鉄シリサイド / 太陽電池 / 金属生産工学 / 材料加工・処理 / 環境技術 |
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| 研究成果の概要 |
酸化ケイ素を含む溶融酸化物の電気分解によるシリコンの還元を実施した．陰極とした鉄やモリブデンの表面では，電解によってシリコンの固溶体およびシリサイドが成長することを確認した．生成物中のシリコン活量を電解の条件と照合し，熱力学的視点および速度論から反応を考察した．
また、シリコンの精製において除去が最も困難とされるホウ素について，化学反応を伴った気相への除去を想定し，高温真空中で酸化ホウ素や亜酸化物の蒸発を調査した． B2O3(g) や B2O2(g) などの蒸気種をクヌーセンセル質量分析法によって定量的に評価し，共存する酸素のポテンシャルとホウ素の蒸発の関係を明らかにした．
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