ヒ素化合物によるヒストン修飾の多様性とその意義の解明

• 研究課題/領域番号: 23510082
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 放射線・化学物質影響科学
• 研究機関: 帝京大学
• 研究代表者: 鈴木 俊英 帝京大学, 薬学部, 准教授 (60256055)
• 研究期間 (年度): 2011-04-28 – 2015-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2014年度)
• 配分額: 5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円); 2014年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2013年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2011年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
• キーワード: ヒ素化合物 / エピジェネティクス / ヒストン修飾 / 遺伝子誘導 / 細胞毒性

研究成果の概要

本研究課題は、ヒ素化合物によるヒストン修飾の多様性を明らかにするとともに、その意義の解明を試みたものである。
三価無機ヒ素［iAs(III)］は、ヒストンH3をリン酸化およびメチル化修飾する事を明らかにするとともに、細胞内での局在を調べたところリン酸化修飾はある限られたDNAが巻き付いているヒストンでのみ観察された。さらに検討を進め、iAs(III)によって誘導されるFOS、EGR1などの遺伝子が巻き付いているヒストンが修飾を受けている事が明らかとなり、iAs(III)によるこれらの遺伝子の誘導は、ヒストンが修飾されクロマチン構造が緩んだ部位に転写因子が結合して引き起こされる事が示唆された。

研究成果

• [雑誌論文] Phosphorylation of histone H3 at serine 10 has an essential role in arsenite-induced expression of FOS, EGR1 and IL8 mRNA in cultured human cell lines. (2012)
  • 著者名/発表者名: Suzuki T, Kita K, Ochi T.
  • 雑誌名: J Appl. Toxicol. 巻: in press 号: 8 ページ: 746-755
  • DOI: 10.1002/jat.2724
  • 査読あり
• [学会発表] 3価無機ヒ素[iAs(III)]による遺伝子発現に関与する転写因子とヒストンH3修飾の関連性 (2015)
  • 著者名/発表者名: 渡邉 裕史、鈴木 俊英、北 加代子、越智 崇文
  • 学会等名: 日本薬学会第135年会
  • 発表場所: 神戸サンボーホール
  • 年月日: 2015-03-28
• [学会発表] 3価無機ヒ素［iAs(III)］によるヒストンH3の修飾 (2012)
  • 著者名/発表者名: 鈴木俊英、北加代子、越智崇史
  • 学会等名: 日本薬学会第１３２年会
  • 発表場所: 札幌
• [学会発表] 3価無機ヒ素[iAs(III)]による、FOSおよびEGR1遺伝子プロモーター近傍のヒストンH3修飾について
  • 著者名/発表者名: 鈴木俊英、北加代子、越智崇文
  • 学会等名: 日本薬学会第134年会
  • 発表場所: 熊本
• [学会発表] Epigenetic regulation of gene expression
  • 著者名/発表者名: Toshihide Suzuki
  • 学会等名: 2nd Meeting of Nutrition and Natural Medicine on Health: Korea-Japan Research Collaboration
  • 発表場所: Busan, KOREA
• [学会発表] 3価無機ヒ素[iAs(III)]によるヒストンH3の修飾
  • 著者名/発表者名: 鈴木俊英、北加代子、越智崇文
  • 学会等名: 日本薬学会第133年会
  • 発表場所: 横浜