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ハイブリッドリングホロー放電の確立と大面積高密度均一プラズマ源への応用

研究課題

研究課題/領域番号 23540577
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 プラズマ科学
研究機関佐賀大学

研究代表者

大津 康徳  佐賀大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (50233169)

研究期間 (年度) 2011 – 2013
研究課題ステータス 完了 (2013年度)
配分額 *注記
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
キーワードハイブリッドリングホロー放電 / ホロー陰極効果 / 容量結合放電 / 2次電子放出係数 / 多重リング状ホロー電極 / 2次電子放出係数 / ガンマ作用 / 容量結合プラズマ / 粒子シミュレーション / ハイブリッドリングホロ-放電
研究概要

太陽電池パネルや液晶ディスプレイなどの機器の一部に使用されている機能性薄膜は、高周波容量結合放電プラズマにより広く製造されている。しかしながら、生産性に課題があり、高効率なプラズマ装置が産業界から要求されている。本研究では、従来にない新しい放電方式を提案し、同電力下で高密度かつ均一なプラズマ発生方式を確立した。具体的には、リング状型の溝をプラズマを作る電極に形成し、その表面に、プラズマを容易につくると期待される2次電子放出係数の高い薄膜を塗布することにより、要求される性能を達成させている。今後は、大面積化に展開することにより、実用化が期待される。

報告書

(4件)
  • 2013 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2012 実施状況報告書
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (36件)

すべて 2014 2013 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (9件) (うち査読あり 7件) 学会発表 (17件) (うち招待講演 1件) 図書 (4件) 備考 (4件) 産業財産権 (2件)

  • [雑誌論文] Production of radio frequency magnetron plasma by monopole arrangement of magnets for target uniform utilization2014

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, M.Shigyo, M.Akiyama, T.Tabaru
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: 101 ページ: 403-407

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書 2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] radio-frequency magnetized ring-shaped hollow cathode discharge plasma for low-pressure plasma processing2014

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, J.Eguchi, Y.Yahata
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: 101 ページ: 46-52

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Radio-frequency magnetized ring-shaped hollow cathode discharge plasma for low-pressure plasma processing2014

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, J.Eguchi and Y.Yahata
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: 101 ページ: 46-52

    • DOI

      10.1016/j.vacuum.2013.07.029

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Production of high-density radio frequency plasma source by ring-shaped hollow-cathode discharge at various trench-shapes, IEEE Trans2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, Y.Yahata, J.Kagami, Y.Kawashimo, T.Takeuchi
    • 雑誌名

      Plasma Sci., Special Issue on Ion sources

      巻: 41 ページ: 1856-1862

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Criteria of radio-frequency ring-shaped hollow cathode discharge using H2 and Ar gases for plasma processing2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu and Y.Kawasaki
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys

      巻: 113 号: 3

    • DOI

      10.1063/1.4776220

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書 2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Production of High-Density Radio Frequency Plasma Source by Ring-Shaped Hollow-Cathode Discharge at Various Trench-Shapes2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, Y.Yahata, J.Kagami, Y.Kawashimo and T.Takeuchi
    • 雑誌名

      IEEE Trans. Plasma Sci., Special Issue on Ion sources

      巻: 41 号: 8 ページ: 1856-1862

    • DOI

      10.1109/tps.2012.2222053

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Production of low electron temperature plasma and coating of carbon-related water repellent films on plastic plate2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu and K.Kihara
    • 雑誌名

      IEEE Trans. Plasma Sci., Special Issue on Carbon-Related Materials Processing by Plasma Technologies

      巻: 40 号: 7 ページ: 1809-1814

    • DOI

      10.1109/tps.2012.2194513

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書 2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of trench shape of ring-shaped hollow electrode on high-density capacitive coupled plasma2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, Y.Yahata, J.Kagami, Y.Kawashimo, T.Takeuchi
    • 雑誌名

      Proc. Plasma Conference

      巻: 22P027-O ページ: 1-2

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [雑誌論文] Influence of trench shape of ring-shaped hollow electrode on high-density capacitive coupled plasma2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, Y.Yahata, J.Kagami, Y.Kawashimo, T.Takeuchi
    • 雑誌名

      Proc. Plasma Conference 2011

      巻: 22P027-O

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Characteristics of capacitively coupled collisional plasma with RF ring-shaped hollow cathode2014

    • 著者名/発表者名
      N.Matsumoto, Y.Ohtsu
    • 学会等名
      ICRP-8/SPP-31
    • 発表場所
      福岡国際会議場
    • 年月日
      2014-02-06
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] リング状ホロー電極を用いた容量結合型衝突プラズマの特性2013

    • 著者名/発表者名
      松本直樹, 大津康徳
    • 学会等名
      2013年(平成25年度)応用物理学会九州支部学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 年月日
      2013-12-01
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Production of high-density RF plasma using ring-shaped hollow cathode for material processing2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu
    • 学会等名
      5th International Workshop on Plasma Scientech for All Something (PLASA-5)
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Production of High-Density RF Plasma Using Ring-Shaped Hollow Cathode for Material Processing2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu
    • 学会等名
      5th International Workshop on Plasma Scientech for All Something (PLASAS-5)
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] ホロー効果を用いたプラズマプロセス装置におけるプラズマ密度のガス圧力依存性2012

    • 著者名/発表者名
      松本直樹, 大津康徳
    • 学会等名
      IEEE 主催 2012年度第2回学生研究発表会
    • 発表場所
      佐賀大学
    • 年月日
      2012-11-27
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] アルゴン・水素混合ガスを用いた高周波リング状ホロー放電プラズマ特性2012

    • 著者名/発表者名
      大津康徳, 川崎裕次郎, 武田賢治
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会
    • 発表場所
      東京大学
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Wood surface treatment by atmospheric RF capacitively coupled plasma jet2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu and M.Z.Hassan
    • 学会等名
      Proc. The 7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology
    • 発表場所
      Taiwan
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Numerical simulation of rf capacitive coupled plasma with ring-shaped hollow cathode2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu
    • 学会等名
      2nd AISC International Symposium
    • 発表場所
      神戸
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書 2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Wood Surface Treatment by Atmospheric RF Capacitively Coupled Plasma Jet", Proc.2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu and M.Z.Hassan
    • 学会等名
      The 7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology
    • 発表場所
      Taiwan
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] 単極磁場配位型RFマグネトロンスパッタによるターゲット利用率改善2012

    • 著者名/発表者名
      大津康徳、執行正和、三沢達也
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会
    • 発表場所
      豊橋科学技術大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] アルゴン・水素混合ガスを用いた 高周波リング状ホロ-放電プラズマ特性2012

    • 著者名/発表者名
      大津康徳、川﨑裕次郎、武田賢治
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会
    • 発表場所
      東京大学本郷キャンパス
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu
    • 学会等名
      4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something (Plasas-4)
    • 発表場所
      中国北京
    • 年月日
      2011-10-09
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu
    • 学会等名
      4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something(Plasas-4)(招待講演)
    • 発表場所
      北京
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] ホロー陰極効果による高速製膜用高密度容量結合型プラズマ装置の開発

    • 著者名/発表者名
      松本直樹、大津康徳
    • 学会等名
      第21回電子情報通信学会九州支部学生講演会
    • 発表場所
      熊本大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] リング状ホロー電極を用いた容量結合型衝突プラズマの特性

    • 著者名/発表者名
      松本直樹、大津康徳
    • 学会等名
      2013年(平成25年度)応用物理学会九州支部学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Characteristics of capacitively coupled collisional plasma with RF ring-shaped hollow electrode

    • 著者名/発表者名
      N.Matsumoto and Y.Ohtsu
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing(ICRP-8/SPP-31)
    • 発表場所
      福岡国際会議場
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] ホロー効果を用いたプラズマプロセス装置におけるプラズマ密度のガス圧依存性

    • 著者名/発表者名
      松本直樹、大津康徳
    • 学会等名
      IEEE主催2012年度第2回学生研究発表会
    • 発表場所
      佐賀大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [図書] エレクトロニクス・エネルギー分野における超撥水・超親水化技術2012

    • 著者名/発表者名
      矢嶋, 大津, 他
    • 出版者
      (株)技術情報協会
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [図書] Preparation of Zirconium Oxide Thin Film by Plasma Coating Method and its Hydrohobic Nature in Zirconium Characteristics, Technology and Performance2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu
    • 出版者
      Nova Science Publisher, Inc. New York
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [図書] エレクトロニクス・エネルギー分野における超撥水・超親水化技術2012

    • 著者名/発表者名
      矢嶋、大津、他39名
    • 総ページ数
      418
    • 出版者
      株式会社 技術情報協会
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [図書] Preparation of Zirconium Oxide Thin Film by Plasma Coating Method and its Hydrophobic Nature in Zirconium -Charactertistics, Technology and Performance,2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ohtsu, D.R.Mylinari, M.Nagai, J.Benavente, G.Maccauro et al
    • 総ページ数
      138
    • 出版者
      Nova Science Publisher, Inc. New York
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.ee.saga-u.ac.jp/plasma/index.html

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [備考] プラズマエレクトロニクス研究室

    • URL

      http://www.ee.saga-u.ac.jp/plasma/index.html

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [備考] プラズマエレクトロニクス研究室

    • URL

      http://www.ee.saga-u.ac.jp/plasma/index.html

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [備考] 電気電子工学科ホームページ

    • URL

      http://www.ec.saga-u.ac.jp/fse_ee/index.html

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [産業財産権] プラズマ処理装置2012

    • 発明者名
      大津康徳, 加々見丈二, 川下安司, 竹内達也
    • 権利者名
      国立大学法人佐賀大学, 神港精機(株)
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2012-06-22
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [産業財産権] プラズマ処理装置2012

    • 発明者名
      大津康徳、加々見丈二、川下安司、竹内達也
    • 権利者名
      国立大学法人佐賀大学、神港精機㈱
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2012-06-22
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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