| 研究課題/領域番号 |
23550091
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
分析化学
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| 研究機関 | 東京学芸大学 |
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研究代表者 |
國仙 久雄 東京学芸大学, 教育学部, 教授 (10251571)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2012年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2011年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | ガリウム / インジウム / 新規分離材 / イオン交換 / 溶媒抽出 / Ga3+ / In3+ / 相互分離 / 負二価六座配位子 / 機能性分離材 / Ga / In / 分離能 / ３価陽イオン / 分離機構 / 多座配位子 |
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| 研究概要 |
シリカゲル表面にアルキル鎖を表面修飾し、そこに溶媒抽出で用いられる抽出試薬を担持した新規分離材を合成した。この分離材を用いてGa3+とIn3+の分離を行うと酸性溶液からの捕集が可能となった。この際の捕集挙動を溶媒抽出法と比較検討を行った。さらに、アルキル鎖長を変えた分離材を合成し、捕集挙動の検討を行った。その結果、アルキル基としてC18H37を導入した場合の捕集挙動は溶媒抽出と同様であったが、アルキル鎖長が短いC12H25を導入した場合、シリカゲル表面のシラノール基の影響が見られることがわかった。
Cu, Zn, NiおよびCoイオンの酸性溶液から捕集は見られないことがわかった。
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