| 研究課題/領域番号 |
23550132
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
高分子化学
|
|---|
| 研究機関 | 東京工業大学 |
|---|
研究代表者 |
石曽根 隆 東京工業大学, 理工学研究科, 准教授 (60212883)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
|
| 配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2013年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2012年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2011年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
|
|---|
| キーワード | 高分子合成 / 表面解析 / ブロック共重合体 / 水溶性高分子 / 疎水性高分子 / 親水性 / リビングアニオン重合 / 両親媒性ブロック共重合体 / ポリジメチルシロキサン / 水溶性ポリマー / 感温性ポリマー / 側鎖末端基 / 表面分析 / シーケンス |
|---|
| 研究概要 |
本研究では、水溶性を示すポリメタクリル酸エステルセグメントと疎水性のポリジメチルシロキサンから構成される新規両親媒性ブロック共重合体をリビングアニオン重合とカップリング反応によって合成し、そのキャストフィルムの構造解析を行った。空気中や真空下という疎水性雰囲気下では、両親媒性ブロック共重合体中の疎水性ポリジメチルシロキサンセグメントがフィルム最表面に偏析したが、親水性条件下では、両セグメントの低いガラス転移温度に起因する迅速な表面構造の再構成が起こり、親水性ポリメタクリル酸エステルセグメントが表面に濃縮することが示唆された。
|
