| 研究課題/領域番号 |
23550204
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機能材料・デバイス
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| 研究機関 | 岐阜大学 |
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研究代表者 |
大矢 豊 岐阜大学, 工学部, 教授 (80167311)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2013年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | チタン酸化物 / チタニア-シリカ複合膜 / ゾルゲル法 / 薄膜 / Ti3O5 / 酸化物薄膜 / 還元処理 / チタニア薄膜 |
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| 研究概要 |
チタニアとシリカの前駆体をそれぞれチタンテトライソプロポキシドとシリコンテトラエトキシドを原料とし、水酸化テトラメチルアンモニウムを用いて合成し、こららの前駆体溶液を所定の比に混合した。この溶液に基板を浸してディップ－コーティングした。700℃空気中で加熱して複合薄膜を合成した後、水素-窒素混合気中または低酸素分圧下で還元した。
水素-窒素混合気体中では1200℃以上でTi3O5の生成が確認されたが、低酸素分圧下では還元できなかった。低酸素分圧処理は公表されている熱力学データを元にすると還元される条件であった。しかし還元状態では容易に気化してしまい、基板上に残らなかったことが原因と思われる。
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