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酸化度の異なる相転移酸化物結晶の成長と電気伝導特性に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 23560013
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 応用物性・結晶工学
研究機関東海大学

研究代表者

沖村 邦雄  東海大学, 工学部, 教授 (00194473)

研究期間 (年度) 2011 – 2013
研究課題ステータス 完了 (2013年度)
配分額 *注記
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2013年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2012年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2011年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
キーワード相転移酸化物 / バナジウム酸化物 / 絶縁体金属転移 / マグネリ相 / 結晶成長 / 薄膜堆積 / 相共存 / アニール効果 / 酸化バナジウム薄膜 / 相転移 / 電気的特性 / 結晶変態 / 国際情報交流 / フランス / アメリカ
研究概要

本研究は68℃付近で4桁に及ぶ抵抗変化を伴う絶縁体-金属相転移(IMT)を発現する二酸化バナジウム(VO2)薄膜と共に,VO2組成とは酸化度の異なる結晶薄膜の成長と電気伝導特性に関するものである.サファイア基板及びシリコン基板を用いて,酸素流量の精密な制御によってV2O3からV2O5に至る幅広い酸化度の薄膜成長を実現した.また,低酸化度のV2O3薄膜のポストアニール処理によってVnO2n-1組成のマグネリ相及びVnO2n+1組成の結晶相へと結晶変態することが判明した.酸化度の異なる異相の相共存がVO2薄膜の電気的特性に強く影響しており,その影響を考慮したデバイス設計が重要となることを示した.

報告書

(4件)
  • 2013 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2012 実施状況報告書
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (55件)

すべて 2014 2013 2012 2011

すべて 雑誌論文 (16件) (うち査読あり 16件) 学会発表 (39件)

  • [雑誌論文] Temperature - dependent Raman and UPS studies on phase transition behavior of VO_2 films with M1 and M2 phases2014

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura, Nurul Hanis Azhan, Tetsuya Hajiri, Shin-ichi Kimura, Mustapha Zaghrioui and Joe Sakai
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: vol.115 ページ: 153501-153501

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of energetic substrate-incident ions on the growth of crystalline vanadium dioxide films in inductively coupled plasma-assisted sputtering2014

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: vol.53, No.3 ページ: 35802-35802

    • NAID

      210000143443

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of energetic substrate-incident ions on the growth of crystalline vanadium dioxidefilms in inductively coupled plasma-assisted sputtering2014

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 雑誌名

      Japanese. Journal of Applied Physics

      巻: 53 号: 3 ページ: 035802-035802

    • DOI

      10.7567/jjap.53.035802

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Temperature-dependent Raman and UPS studies on phase transition behavior of VO2 films with M1 and M2 phases2014

    • 著者名/発表者名
      K. Okimura, N. H. Azhan, T. Hajiri, S. Kimura, M. Zaghrioui, J. Sakai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 115 号: 15 ページ: 153501-153501

    • DOI

      10.1063/1.4870868

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Phase selective growth and characterization of vanadium dioxide films on silicon substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Shin-ichi Kimura, Tetsuya Hajiri and Joe Sakai
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: vol.113 ページ: 163503-163503

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Pulsed laser-deposited VO_2 thin films on Pt layers2013

    • 著者名/発表者名
      Joe Sakai, Mustapha Zaghrioui, Vinh Ta Phuoc, Sylvain Roger, Cecile Autret-Lambert, and Kunio Okimura
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: vol.113 ページ: 123503-123503

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Phase Selective Growth and Characterization of Vanadium Dioxide Films on Silicon Substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Tetsuya Hajiri, Shin-ichi Kimura, and Joe Sakai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 113 号: 16

    • DOI

      10.1063/1.4802652

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Pulsed laser-deposited VO2 thin films on Pt layers2013

    • 著者名/発表者名
      Joe Sakai,Mustapha Zaghrioui, Vinh Ta Phuoc, Sylvain Roger, C_ecile Autret-Lambert, and Kunio Okimura
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 113 号: 12

    • DOI

      10.1063/1.4795813

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書 2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Low-temperature oriented growth of vanadium dioxide films on CoCrTa metal template on Si and vertical metal-insulator transition2012

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura, and Md.Suruz Mian
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol.

      巻: A 30 ページ: 51502-51502

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Stress-induced VO_2 films with M2 monoclinic phase stable at room temperature grown by inductively coupled plasma-assisted reactive sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura, Tomo Watanabe, and Joe Sakai
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: vol.111 ページ: 73514-73514

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Stress-induced VO2 films with M2 monoclinic phase stable at room temperature grown by inductively coupled plasma-assisted reactive sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura, Tomo Watanabe, and Joe Sakai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 111 号: 7

    • DOI

      10.1063/1.3700210

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Low-temperature oriented growth of vanadium dioxide films on CoCrTa metal template on Si and vertical metal-insulator transition2012

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura, and Md.Suruz Mian
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science and Technology A

      巻: 30 号: 5

    • DOI

      10.1116/1.4733995

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-induced lattice softening of excited-state VO_22011

    • 著者名/発表者名
      Masaki Hada, Kunio Okimura and Jiro Matsuo
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 99 ページ: 51903-51903

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Epitaxial Growth of V_2O_3 Thin Films on c-Al_2O_3 in Reactive Sputtering and Its Transformation to VO_2 Films by Post-annealing2011

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura and Yasushi Suzuki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: Vol.50, No.6 ページ: 65803-65803

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 反応性スパッタ法による相転移V_2O_3薄膜のサファイア基板上へのエピタキシャル成長2011

    • 著者名/発表者名
      沖村邦雄,鈴木康史
    • 雑誌名

      Journal of the Vacuum Society of Japan (真空)

      巻: Vol.54, No3 ページ: 169-172

    • NAID

      10028057028

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Epitaxial Growth of V2O3 Thin Films on c-Al2O3 in Reactive Sputtering and Its Transformation to VO2 Films by Post-annealing2011

    • 著者名/発表者名
      K.Okimura and Y.Suzuki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 50 号: 6R ページ: 065803-065803

    • DOI

      10.1143/jjap.50.065803

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] TiNバッファー層によるVO_2薄膜の結晶成長及び転移特性の改善2014

    • 著者名/発表者名
      モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会予稿集
    • 発表場所
      青山学院大学(18a-E8-6)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 反応性スパッタ法によるVO_2(B)薄膜の成長とアニールによるVO_2(M1)への変換2014

    • 著者名/発表者名
      ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会予稿集
    • 発表場所
      青山学院大学(19a-E8-8)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 反応性スパッタ法によるVO2(B)薄膜の成長とアニールによるVO2(M1)への変態2014

    • 著者名/発表者名
      ヌルーハニス アズハン, 蘇 魁, 沖村邦雄
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] TiN導電バッファー層によるVO2薄膜の結晶成長及び転移特性の改善2014

    • 著者名/発表者名
      モハメッド シュルズミヤ, 沖村邦雄
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Electrical Properties of VO_2 Thin Films and Post-annealing Effects on the Growth of Non-stoichiometric VOx2013

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2013 (MJJS 2013)
    • 発表場所
      Tokai University, Hiratsuka, Japan(Proceedings ES-2-2)
    • 年月日
      2013-11-06
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法における基板入射イオンエネルギー分析とVO_2薄膜の低温成長に関する研究2013

    • 著者名/発表者名
      モハメッドシュルズミヤ,ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      同志社大学(16p-D3-3)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] スパッタ法により堆積したVO_2薄膜の電気的特性とポストアニールによる伝導型反転2013

    • 著者名/発表者名
      ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      同志社大学(16p-D3-5)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Insulator-metal Transition of VO_2 Films on Noble Metal Bottom Electrodes2013

    • 著者名/発表者名
      J. Sakai, M. Zaghrioui, V. T. Phuoc, J. Wolfman, and K. Okimura
    • 学会等名
      2013JSAP-MRS Joint Symposium
    • 発表場所
      同志社大学(19a-M6-8, JSAP-MRS-E-008)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Layered growth of vanadium dioxide films on Ti/Si by inductively coupled plasma assisted sputtering method and out-of-plane electrical switching characteristics2013

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 学会等名
      Proceedings of. 12^<th> International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
    • 発表場所
      Kyoto
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical Properties of Post-annealed VO_2 Thin Films on Silicon Substrates with Metal-Insulator Transition2013

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      Proceedings of. 12^<th> International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
    • 発表場所
      Kyoto
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO_2薄膜の低温成長と積層方向スイッチング2013

    • 著者名/発表者名
      モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第60回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工大(29p-F2-19)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ガラス基板上M2相VO_2薄膜の結晶構造変態と金属-絶縁体転移特性2013

    • 著者名/発表者名
      沖村邦雄,渡部智,坂井穣
    • 学会等名
      第60回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工大(29p-F2-18)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Layered growth of vanadium dioxide films on Ti/Si by inductively coupled plasma assisted sputtering method and out-of-plane electrical switching characteristics2013

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 学会等名
      12th International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Electrical Properties of Post-annealed VO2 Thin Films on Silicon Substrates with Metal-Insulator Transition2013

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      12th International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法における基板入射イオンエネルギー分析とVO2薄膜の低温成長に関する研究2013

    • 著者名/発表者名
      モハメッド シュルズミヤ,ヌルー ハニス アズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] スパッタ法により堆積したVO2薄膜の電気的特性とポストアニールによる伝導型反転2013

    • 著者名/発表者名
      ヌルー ハニス アズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Electrical Properties of VO2 Thin Films and Post-annealing Effects on the Growth of Non-stoichiometric VOx2013

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2013 (MJJS 2013)
    • 発表場所
      東海大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] ガラス基板上M2相VO2薄膜の結晶構造変態と金属‐絶縁体転移特性2013

    • 著者名/発表者名
      沖村邦雄,渡辺 智,坂井 穣
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO2薄膜の低温成長と積層方向スイッチング2013

    • 著者名/発表者名
      モハメッド シュルズ ミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] Vanadium Dioxide Film Growth onn Titanium Metal Layer on Si (100) by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering Method2012

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
    • 発表場所
      MJIIT, UTM, KL, Malaysia(Proceedings ESE-8)
    • 年月日
      2012-11-21
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical Properties of Vanadium Dioxide Thin Films on Silicon Substrate with Metal-Insulator Transition2012

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
    • 発表場所
      MJIIT, UTM, KL, Malaysia(Proceedings ESE-8)
    • 年月日
      2012-11-21
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 反応性スパッタ法によるマグネリ相酸化バナジウム薄膜の堆積と相転移特性2012

    • 著者名/発表者名
      鈴木康史,沖村邦雄
    • 学会等名
      第53回真空に関する連合講演会予稿集
    • 発表場所
      甲南大学ポートアイランドキャンパス(15P-16)
    • 年月日
      2012-11-15
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ストレス誘起M_2相VO_2薄膜の電子状態と相転移特性2012

    • 著者名/発表者名
      渡部智,モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄,坂井穣
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      愛媛大学・松山大学(12a-C13-4)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO_2薄膜の低温成長2012

    • 著者名/発表者名
      モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      愛媛大学・松山大学(12a-C13-5)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法による金属膜上へのVO_2薄膜の成長と積層方向スイッチング特性2012

    • 著者名/発表者名
      モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学(17p-F6-12)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法におけるストレス誘起M2相VO_2薄膜の成長とその特性2012

    • 著者名/発表者名
      渡部智,沖村邦雄,坂井穣
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学(17p-F6-13)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 反応性スパッタ法によるマグネリ相を含む低酸化度バナジウム酸化膜堆積2012

    • 著者名/発表者名
      鈴木康史,沖村邦雄
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学(17p-F6-14)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Vanadium Dioxide Film Growth onn Titanium Metal Layer on Si (100) by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering Method2012

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
    • 発表場所
      Kuala Lumpur, Malaysia
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] Electrical Properties of Vanadium Dioxide Thin Films on Silicon Substrate with Metal-Insulator Transition2012

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
    • 発表場所
      Kuala Lumpur, Malaysia
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] 反応性スパッタ法によるマグネリ相酸化バナジウム薄膜の堆積と相転移特性2012

    • 著者名/発表者名
      鈴木康史,沖村邦雄
    • 学会等名
      第53回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      甲南大学ポートアイランドキャンパス
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] ストレス誘起M2相VO2薄膜の電子状態と相転移特性2012

    • 著者名/発表者名
      渡部 智,モハメッド シュルズミヤ,沖村邦雄,坂井穣
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO2薄膜の低温成長2012

    • 著者名/発表者名
      モハメッド シュルズミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] c面サファイア基板上バナジウム酸化膜におけるマグネリ相を含む相共存モデル2011

    • 著者名/発表者名
      鈴木康史,沖村邦雄
    • 学会等名
      第52回真空に関する連合講演会予稿集
    • 発表場所
      学習院大学(17P-39)
    • 年月日
      2011-11-17
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Growth of phase transition VO_2 films with M_2 phase in inductively coupled plasma assisted reactive sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      T. Watanabe, Md. Suruz Mian, K.Okimura and J. Sakai
    • 学会等名
      15^<th> International Conference on Thin Films
    • 発表場所
      KyotoTERSSA(P-S2-44)
    • 年月日
      2011-11-10
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Growth of vanadium dioxide thin films with metal-insulator transition on CoCrTa/Si at low temperature2011

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 学会等名
      15^<th> International Conference on Thin Films
    • 発表場所
      KyotoTERSSA(P-S2-33)
    • 年月日
      2011-11-10
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Effects of phase coexistence and stress on the metal-insulator transition of V_2O_3 films grown on c-plane sapphire in reactive sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      K.Okimura and Y. Suzuki
    • 学会等名
      11^<th> International Conference on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2011) TF 1-5
    • 発表場所
      Kyoto research Park
    • 年月日
      2011-07-08
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法によるM_2相VO_2薄膜の成長と相転移特性2011

    • 著者名/発表者名
      渡部智,モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      山形大学(1a-ZK-1)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] サファイアc面基板上にスパッタ成膜したV_2O_3薄膜の相転移特性と膜中ストレスの影響2011

    • 著者名/発表者名
      鈴木康史,沖村邦雄
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      山形大学(1a-ZK-3)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Effects of phase coexistence and stress on the metal-insulator transition of V2O3 films grown on c-plane sapphire in reactive sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      K.Okimura and Y. Suzuki
    • 学会等名
      11th International Conference on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2011)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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