| 研究課題/領域番号 |
23560129
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 九州工業大学 |
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研究代表者 |
鈴木 恵友 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授 (50585156)
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| 研究分担者 |
木村 景一 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授 (80380723)
カチョーンルンルアン パナート 九州工業大学, 先端金型センター, 助教 (60404092)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2013年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2012年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2011年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
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| キーワード | 超精密加工 / 水酸化フラーレン / 混合微粒子 / サファイアCMP / 国際情報交換 / 精密研磨 / ナノ材料 / ナノチューブ・フラーレン / 省エネルギー / マイクロ・ナノデバイス |
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| 研究概要 |
コロイダルシリカスラリーに水酸化フラーレン水溶液を混合させることで，サファイアCMPにおける材料除去レートが向上をすることを確認した．材料除去レートの向上に関してはいくつかの水酸化フラーレンの調合条件について確認したところ，水酸化フラーレンの濃度の影響が最も支配的であった．このときの微粒子の状態を動的光散乱法(DLS)や走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した場合，水酸化フラーレンがコロイダルシリカ上に２分子程度吸着していることを示唆する結果が得られた．水酸化フラーレンが吸着した複合微粒子においては，ポリシング前後で水酸化フラーレンの分子構造が崩壊しないことがラマン分光法により確認されている．
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