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結晶シリコンソーラーセルの水蒸気熱処理による特性改善機構の解明

研究課題

研究課題/領域番号 23560360
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関東京農工大学

研究代表者

蓮見 真彦  東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (60261153)

連携研究者 鮫島 俊之  東京農工大学, 大学院工学研究院, 教授 (30271597)
研究期間 (年度) 2011 – 2013
研究課題ステータス 完了 (2013年度)
配分額 *注記
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2012年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2011年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
キーワードソーラーセル / 水蒸気熱処理 / 少数キャリアライフタイム / マイクロ波吸収 / 太陽電池 / シリコン / マイクロ波吸収測定 / ライフタイム
研究概要

アモルファスシリコンp-i-n型ソーラーセルに対して水蒸気熱処理を適用し、変換効率が向上する条件を見出した。特に、初期特性の悪いソーラーセルに大きな改善が見られた。
マイクロ波吸収測定を用いたシリコン基板の少数キャリア実効ライフタイム評価技術を構築した。異なる波長の励起光を用いることにより、シリコン基板への光侵入長の違いによりキャリア生成場所を変調し、少数キャリア再結合サイトの空間分布、密度に関する情報を得た。本手法は半導体デバイスの品質評価、特に作製プロセス中モニタリングへの応用が期待できる。

報告書

(4件)
  • 2013 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2012 実施状況報告書
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (49件)

すべて 2014 2013 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (14件) (うち査読あり 12件) 学会発表 (34件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Activation of silicon implanted with phosphorus and boron atoms by microwave annealing with carbon powder as a heat source2014

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, T. Nakamura, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53

    • NAID

      210000143902

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Multi junction solar cells using band-gap induced cascaded light absorption2014

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, H. Nomura, S. Yoshidomi, and M. Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53

    • NAID

      210000143904

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo induced minority carrier annihilation at crystalline silicon surface in metal oxide semiconductor structure2014

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, J. Furukawa, T. Nakamura, S. Shigeno, T. Node, S. Yoshidomi, and M. Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53

    • NAID

      210000143406

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Activation of silicon implanted with phosphorus and boron atoms by microwave annealing with carbon powder as a heat source2014

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Hasumi, Tomohiko Nakamura, Shinya Yoshidomi, and Toshiyuki Sameshima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53 号: 5S1 ページ: 05FV05-05FV05

    • DOI

      10.7567/jjap.53.05fv05

    • NAID

      210000143902

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Multi junction solar cells using band-gap induced cascaded light absorption2014

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima, Hitomi Nomura, Shinya Yoshidomi, and Masahiko Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53 号: 5S1 ページ: 05FV07-05FV07

    • DOI

      10.7567/jjap.53.05fv07

    • NAID

      210000143904

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo induced minority carrier annihilation at crystalline silicon surface in metal oxide semiconductor structure2014

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima, Jun Furukawa, Tomohiko Nakamura, Satoshi Shigeno, Tomohito Node, Shinya Yoshidomi, and Masahiko Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53 号: 3 ページ: 031301-031301

    • DOI

      10.7567/jjap.53.031301

    • NAID

      210000143406

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Investigation of Silicon Surface Passivation by Microwave Annealing Using Multiple-Wavelength Light-Induced Carrier Lifetime Measurement2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, R. Ebina, K. Betsuin, Y. Takiguchi, and M. Hasumi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52

    • NAID

      210000141723

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Investigation of Silicon Surface Passivation by Microwave Annealing, Jpn2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys

      巻: Vol.52 号: 1R ページ: 11801-11801

    • DOI

      10.7567/jjap.52.011801

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Heat treatment of amorphous silicon p-i-n solar cells with high-pressure H2O vapor2012

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa, M. Hasumi, T. Sameshima, T. Koida, T. Kaneko, M. Karasawa, and M. Kondo
    • 雑誌名

      J. Non-Cryst. Solids

      巻: 358

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Combination of Amorphous Silicon Deposition with High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, T. Nagao, M. Hasumi, A. Shuku, E. Takahashi, and Y. Andoh
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51

    • NAID

      210000140378

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H2O Vapor2012

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa
    • 雑誌名

      Journal of Non-Crystalline Solids

      巻: 358 号: 17 ページ: 2285-2288

    • DOI

      10.1016/j.jnoncrysol.2012.01.057

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Combination of Amorphous Silicon Deposition with High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, T. Nagao, M. Hasumi, A.Shuku, E.Takahashi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: Vol.51 号: 3S ページ: 03CA06-03CA06

    • DOI

      10.1143/jjap.51.03ca06

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication of Aluminum Oxide Films by Aluminum Metal Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere for Surface Passivation2011

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, Y. Kanda, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
    • 雑誌名

      Technical Digest of the 24^<th> Int. Photovoltaic Solar Energy Conf

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [雑誌論文] Fabrication of Aluminum Oxide Films by Aluminum Metal Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere for Surface Passivation2011

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, Y. Kanda, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
    • 雑誌名

      Technical Digest of the 24th Int. Photovoltaic Solar Energy Conf.

      巻: 1

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films by Microwave Heating2014

    • 著者名/発表者名
      中村友彦, 吉冨真也, 蓮見真彦, 鮫島俊之
    • 学会等名
      応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 年月日
      2014-03-19
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Activation of Silicon Implanted with Dopant Atoms by Microwave Heating2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, T. Nakamura, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Ishii, Y. Inouchi, M. Naito and T. Mizuno
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Hilton Fukuoka Sea Hawk
    • 年月日
      2013-09-26
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書 2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Silicon Surface Oxidation and Passivation by Remote Induction-Coupled Oxygen Plasma2013

    • 著者名/発表者名
      鮫島俊之, 蓮見真彦, 吉冨真也, 中村友彦, 滋野聖
    • 学会等名
      応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
    • 年月日
      2013-09-17
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Multi-Connected Solar Cells Using Band-Gap Induced Cascaded Light Absorption2013

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, S. Yoshidomi, and M. Hasumi
    • 学会等名
      JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Doshisha Univ
    • 年月日
      2013-09-16
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Microwave Annealing of Phosphorus Implanted p-type Silicon2013

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
    • 学会等名
      JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Doshisha Univ
    • 年月日
      2013-09-16
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Activation of Silicon Implanted with Phosphorus Atoms by Microwave Heating2013

    • 著者名/発表者名
      S. Yoshidomi, C. Akiyama, J. Furukawa, M. Hasumi, T. Ishii, T. Sameshima, Y. Inouchi, and M. Nait
    • 学会等名
      International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      Ryukoku Univ
    • 年月日
      2013-07-04
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Annihilation at Crystalline Silicon Surface in MOS Structure2013

    • 著者名/発表者名
      J. Furukawa, S. Yoshidomi, M. Hasumi, and T. Sameshima
    • 学会等名
      International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      Ryukoku Univ
    • 年月日
      2013-07-04
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] MOS構造における結晶シリコン表面の少数キャリア再結合2013

    • 著者名/発表者名
      古川潤, 吉冨真也, 蓮見真彦, 鮫島俊之
    • 学会等名
      応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 年月日
      2013-03-28
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Multiple Wavelength Light Induced Carrier Microwave Absorption Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, Y. Takiguchi, T. Nagao, and M. Hasumi
    • 学会等名
      International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      Ryukoku Univ
    • 年月日
      2012-07-04
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Increase in Minority Carrier Lifetime Measured by Microwave Irradiation Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, K. Betsuin, T. Nagao, and M. Hasumi
    • 学会等名
      International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      Ryukoku Univ
    • 年月日
      2012-07-04
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 多波長光照射によるマイクロ波フリーキャリヤ吸収を用いた半導体少数キャリヤ消滅特性の調査2012

    • 著者名/発表者名
      滝口裕太, 永尾友一, 蓮見真彦, 鮫島俊之
    • 学会等名
      応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 年月日
      2012-03-18
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] リモート酸素プラズマ処理と高圧水蒸気熱処理によるシリコン表面パッシベーション2012

    • 著者名/発表者名
      永冨佳将, 蓮見真彦, 鮫島俊之
    • 学会等名
      応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 年月日
      2012-03-18
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Multiple Wavelength Light Induced Carrier Microwave Absorption Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, Y. Takiguchi, T. Ngao, M. Hasumi
    • 学会等名
      THE 19TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
    • 発表場所
      Ryukoku University
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] Increase in Minority Carrier Lifetime Measured by Microwave Irradiation Method2012

    • 著者名/発表者名
      T. Sameshima, K. Betsuin, T. Nagao, M. Hasumi
    • 学会等名
      THE 19TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
    • 発表場所
      Ryukoku University
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] 多波長光照射によるマイクロ波フリーキャリヤ吸収を用いた半導体少数キャリヤ消滅特性の調査2012

    • 著者名/発表者名
      滝口裕太,永尾友一,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] リモート酸素プラズマ処理と高圧水蒸気熱処理によるシリコン表面パッシベーション2012

    • 著者名/発表者名
      永冨佳将,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] シリコン表面における光誘起少数キャリヤ再結合消滅挙動2012

    • 著者名/発表者名
      古川 潤,滝口裕太,永尾友一,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H2O Vapor2011

    • 著者名/発表者名
      M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Sameshima, T. Koida, T. Kaneko, M. Karasawa, and M. Kondo
    • 学会等名
      International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
    • 発表場所
      Nara Prefectural New Public Hall
    • 年月日
      2011-08-23
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment Used to Improve Polycrystalline Silicon Soar Cell Characteristics2011

    • 著者名/発表者名
      J. Takenezawa, M. Hasumi, and T. Sameshima
    • 学会等名
      International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      Ryukoku Univ
    • 年月日
      2011-07-12
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] シリコンの少数キャリヤライフタイムの種々の外部刺激による変化2011

    • 著者名/発表者名
      鮫島俊之、別院公一、蓮見真彦
    • 学会等名
      第8回薄膜材料デバイス研究会
    • 発表場所
      龍谷大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] J. Takenezawa, M. Hasumi, T. Sameshima2011

    • 著者名/発表者名
      High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment Used to Improve Polycrystalline Solar Cell Characteristics
    • 学会等名
      THE EIGHTEENTH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
    • 発表場所
      龍谷大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Masahiko Hasumi, Jun Takenezawa, Toshiyuki Sameshima, Takashi Koida, Tetsuya Kaneko, Minoru Karasawa, Michio Kondo2011

    • 著者名/発表者名
      Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H2O Vapor
    • 学会等名
      24th International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
    • 発表場所
      奈良
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Atsushi Kohno, Takayuki Tajiri, Shinya Yoshidomi, Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima2011

    • 著者名/発表者名
      Chemical Bonding and Valence Band States of SiO2 Thin Film Prepared by Oxygen Plasma Followed by High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment
    • 学会等名
      24th International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
    • 発表場所
      奈良
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Oxygen Radical Treatment used for Fabricating Metal-Insulator-Semiconductor Solar Cells

    • 著者名/発表者名
      滋野聖,吉冨真也,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films by Microwave Heating

    • 著者名/発表者名
      中村友彦,吉冨真也,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] 酸素プラズマ処理によるシリコン表面パッシベーション

    • 著者名/発表者名
      野手智仁,吉冨真也,古川潤,阿部博史,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Silicon Surface oxidation and Passivation by Remote Induction-Coupled Oxygen Plasma

    • 著者名/発表者名
      鮫島俊之,蓮見真彦,吉冨真也,中村友彦,滋野聖
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学京田辺キャンパス
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Activation of Silicon Implanted with Dopant Atoms by Microwave Heating

    • 著者名/発表者名
      中村友彦,滋野聖,吉冨真也,蓮見真彦,石井寿子,鮫島俊之,井内裕,内藤勝男,水野智久
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学京田辺キャンパス
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Multi-Connected Solar Cells Using Band-Gap Induced Cascaded Light Absorption

    • 著者名/発表者名
      TOSHIYUKI SAMESHIMA, SHINYA YOSHIDOMI and MASAHIKO HASUMI
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Doshisha University, Kyoto
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Microwave Annealing of Phosphorus Implanted p-type Silicon

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Hasumi, Shinya Yoshidomi and Toshiyuki Sameshima
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Doshisha University, Kyoto
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Passivation of silicon surface by laser rapid heating

    • 著者名/発表者名
      Toshiyuki Sameshima, Hiroshi Abe, Masahiko Hasumi, Tomohisa Mizuno, Naoki Sano
    • 学会等名
      LPM2013
    • 発表場所
      Toki Messe, Niigata
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Activation of Silicon Implanted with Phosphorus Atoms by Microwave Heating

    • 著者名/発表者名
      S. Yoshidomi, C. Akiyama, J.Furukawa, M. Hsumi, T. Ishii, T. Sameshima, Y. Inouchi, M. Naito
    • 学会等名
      THE TWENTIETH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
    • 発表場所
      Ryukoku University Avanti Kyoto Hall, Kyoto
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Minority Carrier Annihilation at Crystalline SiliconSurface in MOS Structure

    • 著者名/発表者名
      J. Furukawa, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Sameshima
    • 学会等名
      THE TWENTIETH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
    • 発表場所
      Ryukoku University Avanti Kyoto Hall, Kyoto
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] MOS 構造における結晶シリコン表面の少数キャリヤ再結合

    • 著者名/発表者名
      古川潤,吉冨真也,蓮見真彦,鮫島俊之
    • 学会等名
      第 60 回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.tuat.ac.jp/~sameken/

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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